CORC

浏览/检索结果: 共12条,第1-10条 帮助

限定条件    
已选(0)清除 条数/页:   排序方式:
4H-SiC 沟槽结势垒二极管研制 期刊论文
电工电能新技术, 2018
作者:  郭心宇;  汤益丹;  董升旭;  杨成樾;  白云
收藏  |  浏览/下载:6/0  |  提交时间:2019/04/19
Estimation of Border Trap Distribution in Electron Irradiated SiC MOS Capacitor Using High Temperature 1M Hz C-V Method 会议论文
作者:  Tang YD(汤益丹);  Peng CY(彭朝阳);  Wang SK(王盛凯);  Hao JL(郝继龙);  Liu XY(刘新宇)
收藏  |  浏览/下载:15/0  |  提交时间:2019/05/14
Analysis of the inhomogeneous barrier and phase composition of W/4H-SiC Schottky contacts formed at different annealing temperatures 期刊论文
Chin. Phys. B, 2018
作者:  Liu XY(刘新宇);  Dong SX(董升旭);  Bai Y(白云);  Tang YD(汤益丹);  Chen H(陈宏)
收藏  |  浏览/下载:30/0  |  提交时间:2019/04/19
Study of the Mechanisms and characteristics of Large-AreaHigh-Current-Density 4H-SiC Trench Junction Barrier Schottky Diodes 会议论文
作者:  Li CZ(李诚瞻);  Tang YD(汤益丹);  Dong SX(董升旭);  Bai Y(白云);  Yang CY(杨成樾)
收藏  |  浏览/下载:14/0  |  提交时间:2019/05/14
一种碳化硅MOSFET沟道自对准工艺实现方法 专利
专利号: CN201510564659.4, 申请日期: 2018-07-20, 公开日期: 2015-11-18
作者:  彭朝阳;  刘新宇;  刘国友;  李诚瞻;  汤益丹
收藏  |  浏览/下载:17/0  |  提交时间:2019/03/07
Reliability of 4H-SiC Junction Barrier Schottky Diodes Under High Temperature Power Cycling Stress 会议论文
作者:  Tang YD(汤益丹);  Liu XY(刘新宇);  Wang G(王刚);  Luo YF(罗亚非);  Bai Y(白云)
收藏  |  浏览/下载:14/0  |  提交时间:2019/05/14
Study of Temperature-Dependent Mechanisms and Characteristics of 4H-SiC Junction Barrier Schottky Rectifiers 期刊论文
Materials Science Forum, 2018
作者:  Xu SD(徐少东)
收藏  |  浏览/下载:12/0  |  提交时间:2019/04/19
High Temperature 1MHz CapacitanceVoltage Method for Evaluation of Border Traps in 4HSiC MOS System 期刊论文
J. Appl. Phys., 2018
作者:  KeAn Liu;  Peng CY(彭朝阳);  Wang SK(王盛凯);  Bai Y(白云);  Tang YD(汤益丹)
收藏  |  浏览/下载:24/0  |  提交时间:2019/04/19
1200V/100A 高温大电流 4H-SiC 器件的研制 期刊论文
半导体技术, 2018
作者:  李诚瞻;  史晶晶;  白云;  董升旭;  汤益丹
收藏  |  浏览/下载:8/0  |  提交时间:2019/04/19
碳化硅MOSFET器件及其制作方法 专利
专利号: CN201510574417.3, 申请日期: 2018-03-23, 公开日期: 2015-12-16
作者:  李诚瞻;  汤益丹;  申华军;  白云;  周静涛
收藏  |  浏览/下载:21/0  |  提交时间:2019/03/07


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace