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科研机构
微电子研究所 [12]
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专利 [3]
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2018 [12]
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发表日期:2018
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4H-SiC 沟槽结势垒二极管研制
期刊论文
电工电能新技术, 2018
作者:
郭心宇
;
汤益丹
;
董升旭
;
杨成樾
;
白云
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浏览/下载:6/0
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提交时间:2019/04/19
Estimation of Border Trap Distribution in Electron Irradiated SiC MOS Capacitor Using High Temperature 1M Hz C-V Method
会议论文
作者:
Tang YD(汤益丹)
;
Peng CY(彭朝阳)
;
Wang SK(王盛凯)
;
Hao JL(郝继龙)
;
Liu XY(刘新宇)
收藏
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2019/05/14
Analysis of the inhomogeneous barrier and phase composition of W/4H-SiC Schottky contacts formed at different annealing temperatures
期刊论文
Chin. Phys. B, 2018
作者:
Liu XY(刘新宇)
;
Dong SX(董升旭)
;
Bai Y(白云)
;
Tang YD(汤益丹)
;
Chen H(陈宏)
收藏
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浏览/下载:30/0
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提交时间:2019/04/19
Study of the Mechanisms and characteristics of Large-AreaHigh-Current-Density 4H-SiC Trench Junction Barrier Schottky Diodes
会议论文
作者:
Li CZ(李诚瞻)
;
Tang YD(汤益丹)
;
Dong SX(董升旭)
;
Bai Y(白云)
;
Yang CY(杨成樾)
收藏
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2019/05/14
一种碳化硅MOSFET沟道自对准工艺实现方法
专利
专利号: CN201510564659.4, 申请日期: 2018-07-20, 公开日期: 2015-11-18
作者:
彭朝阳
;
刘新宇
;
刘国友
;
李诚瞻
;
汤益丹
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2019/03/07
Reliability of 4H-SiC Junction Barrier Schottky Diodes Under High Temperature Power Cycling Stress
会议论文
作者:
Tang YD(汤益丹)
;
Liu XY(刘新宇)
;
Wang G(王刚)
;
Luo YF(罗亚非)
;
Bai Y(白云)
收藏
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2019/05/14
Study of Temperature-Dependent Mechanisms and Characteristics of 4H-SiC Junction Barrier Schottky Rectifiers
期刊论文
Materials Science Forum, 2018
作者:
Xu SD(徐少东)
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2019/04/19
High Temperature 1MHz CapacitanceVoltage Method for Evaluation of Border Traps in 4HSiC MOS System
期刊论文
J. Appl. Phys., 2018
作者:
KeAn Liu
;
Peng CY(彭朝阳)
;
Wang SK(王盛凯)
;
Bai Y(白云)
;
Tang YD(汤益丹)
收藏
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2019/04/19
1200V/100A 高温大电流 4H-SiC 器件的研制
期刊论文
半导体技术, 2018
作者:
李诚瞻
;
史晶晶
;
白云
;
董升旭
;
汤益丹
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2019/04/19
碳化硅MOSFET器件及其制作方法
专利
专利号: CN201510574417.3, 申请日期: 2018-03-23, 公开日期: 2015-12-16
作者:
李诚瞻
;
汤益丹
;
申华军
;
白云
;
周静涛
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2019/03/07
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