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Comprehensive characterization of TSV etching performance with phase-contrast X-ray microtomography
期刊论文
JOURNAL OF SYNCHROTRON RADIATION, 2020, 卷号: 27, 页码: 1023-1032
作者:
Li, K
;
Deng, B
;
Zhang, HP
;
Yu, FC
;
Xue, YL
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2021/09/06
SILICON VIAS
RETRIEVAL
PROFILE
Quantum dot lasers integrated on silicon submount with mechanical features and through-silicon vias
专利
专利号: US20190273364A1, 申请日期: 2019-09-05, 公开日期: 2019-09-05
作者:
SIRIANI, DOMINIC F.
;
ANDERSON, SEAN P.
;
PATEL, VIPULKUMAR
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2019/12/31
Study on copper protrusion of through-silicon via in a 3-D integrated circuit
期刊论文
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A-STRUCTURAL MATERIALS PROPERTIES MICROSTRUCTURE AND PROCESSING, 2019, 卷号: 755, 页码: 66-74
作者:
Song M
;
Wei ZQ
;
Wang BY
;
Chen L
;
Chen L
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浏览/下载:53/0
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提交时间:2019/11/27
Through-silicon via
Cu protrusion
Annealing temperature
Electron backscatter diffraction
Finite element analysis
Assembly of 2-dimensional matrix of optical transmitter or receiver based on wet etched silicon interposer
专利
专利号: WO2019048653A1, 申请日期: 2019-03-14, 公开日期: 2019-03-14
作者:
LI, CHENHUI
;
RAZ, ODED
;
STABILE, RIPALTA
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2019/12/30
A New Prewetting Process of Through Silicon Vias (TSV) Electroplating for 3D Integration
期刊论文
JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS, 2019, 卷号: 28, 期号: 3
作者:
Li, Cao
;
Nie, Jun
;
Zou, Jinglong
;
Liu, Sheng
;
Zheng, Huai
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2019/12/05
3D integration
prewetting
TSV electroplating
TSV filling
A new prewetting process of through silicon vias (TSV) electroplating for 3D integration
期刊论文
Journal of Microelectromechanical Systems, 2019, 卷号: 28, 期号: 3
作者:
Li, Cao
;
Nie, Jun
;
Zou, Jinglong
;
Liu, Sheng
;
Zheng, Huai
收藏
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2019/12/05
THERMAL MANAGEMENT OF THE THROUGH SILICON VIAS IN 3-D INTEGRATED CIRCUITS
期刊论文
THERMAL SCIENCE, 2019, 卷号: 23, 期号: 4, 页码: 2157-2162
作者:
Wang, Kang-Jia
;
Hua, Chu-Xia
;
Sun, Hong-Chang
收藏
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2019/12/11
thermal
through silicon via
3-D integrated circuit
nanoscale flow
Development of an infrared polarized microscope for evaluation of high gradient stress with a small distribution area on a silicon chip
期刊论文
REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2019, 卷号: 90, 页码: 063108
作者:
Su, Fei
;
Li, Tenghui
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浏览/下载:30/0
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提交时间:2019/12/30
Birefringence
Electronics packaging
Light polarization
Optical devices
Silicon
Thermal cycling
Three dimensional integrated circuits
Distribution area
High gradient stress
Phase difference
Phase-shifting technique
Polarized microscope
Quarter wave-plate
Stress birefringence
Through silicon vias
Vibrations (mechanical)
Microfabricated optical apparatus with grounded metal layer
专利
专利号: US10050409, 申请日期: 2018-08-14, 公开日期: 2018-08-14
作者:
GUDEMAN, CHRISTOPHER S.
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提交时间:2019/12/26
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