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Annealing-temperature-modulated optical, electrical properties, and leakage current transport mechanism of sol-gel-processed high-k HfAlOX gate dielectrics
期刊论文
CERAMICS INTERNATIONAL, 2017, 卷号: 43, 期号: 3, 页码: 3101-3106
作者:
Jin, P.
;
He, G.
;
Fang, Z. B.
;
Liu, M.
;
Xiao, D. Q.
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2018/07/04
High-k Hfalox Gate Dielectrics
Sol-gel
Optical Properties
Electrical Properties
Leakage Current Transport Mechanism
Annealing-temperature-modulated optical, electrical properties, and leakage current transport mechanism of sol-gel-processed high-k HfAlOX gate dielectrics
期刊论文
CERAMICS INTERNATIONAL, 2017, 卷号: Vol.43 No.3, 页码: 3101-3106
作者:
Li,W. D.
;
Jin,P.
;
Zhang,M.
;
Xiao,D. Q.
;
Fang,Z. B.
收藏
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2019/04/22
THIN-FILMS
INTERFACIAL PROPERTIES
HFO2 FILMS
MICROSTRUCTURE
EVAPORATION
NITRIDATION
DEPOSITION
Memory characteristics and tunneling mechanism of Pt nano-crystals embedded in HfAlOx films for nonvolatile flash memory devices
期刊论文
2015, 卷号: 15, 期号: 3, 页码: 279-284
作者:
Zhou, Guangdong
;
wu, Bo
;
Li, Zhiling
;
Xiao, Zhijun
;
Li, Shuhui
收藏
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2019/12/28
Memory characteristics and tunneling mechanism of Pt nano-crystals embedded in HfAlOx films for nonvolatile flash memory devices
期刊论文
2015, 卷号: 15, 期号: 3, 页码: 279-284
作者:
Zhou, Guangdong
;
wu, Bo
;
Li, Zhiling
;
Xiao, Zhijun
;
Li, Shuhui
收藏
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2019/12/30
Effect of Rapid Thermal Annealing on Resistive Switching Uniformity of HfAlOx Based RRAM Devices
其他
2014-01-01
Liu, Lifeng
;
Zhang, Weibing
;
Wang, Yiran
;
Ma, Wenjia
;
Wang, Guohui
;
Sun, Bing
;
Wang, Shengkai
;
Liu, Honggang
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2015/11/13
RRAM
Oxide
HfAlOx
Uniformity
Annealing
OXIDE
Room-temperature weak ferromagnetism of amorphous HfAlOx thin films deposited by pulsed laser deposition
期刊论文
Applied Physics Letters, 2006, 卷号: 89, 期号: 24
X. Y. Qiu
;
Q. M. Liu
;
F. Gao
;
L. Y. Lu
;
J. M. Liu
收藏
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2012/04/14
thermal-stability
hfo2
magnetism
semiconductors
oxides
cab6
Phase separation enhanced interfacial reactions in complex high-k dielectric films
期刊论文
Integrated Ferroelectrics, 2006, 卷号: 86, 页码: 13-19
X. Y. Qiu
;
F. Gao
;
H. W. Liu
;
J. S. Zhu
;
J. M. Liu
收藏
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2012/04/14
phase separation
interfacial reaction
high-k dielectric film
pulsed-laser deposition
silicate thin-films
thermal-stability
gate
property
hfo2
Phase separation and interfacial reaction of high-k HfAlOx films prepared by pulsed-laser deposition in oxygen-deficient ambient
期刊论文
Applied Physics Letters, 2006, 卷号: 88, 期号: 7
X. Y. Qiu
;
H. W. Liu
;
F. Fang
;
M. J. Ha
;
J. M. Liu
收藏
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2012/04/14
silicate thin-films
thermal-stability
gate dielectrics
si(100)
zro2
capacitors
diffusion
kinetics
oxides
hfo2
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