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Anomalous electrical properties induced by hot-electron-injection in 130-nm partially depleted soi nmosfets fabricated on modified wafer
期刊论文
Ieee transactions on nuclear science, 2016, 卷号: 63, 期号: 5, 页码: 2731-2737
作者:
Dai, Lihua
;
Bi, Dawei
;
Ning, Bingxu
;
Hu, Zhiyuan
;
Song, Lei
收藏
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浏览/下载:59/0
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提交时间:2019/05/09
Buried oxide
Interface trap
Silicon ion implantation
Soi nmosfets
Total dose radiation
Effects of annealing temperature on buried oxide precipitates in He and O co-implanted Si
期刊论文
VACUUM, 2013, 卷号: 93, 期号: 93, 页码: 22-27
作者:
Zhong, YR
;
Li, BS
;
Wang, BY
;
Qin, XB
;
Zhang, LQ
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浏览/下载:36/0
  |  
提交时间:2015/10/15
Ion implantation
Oxide precipitates
Si-O stretching band
Vacancy-type defects
Microstructures
Effect of co-implantation of nitrogen and fluorine on the fixed positive charge density of the buried oxide layer in SIMOX SOI materials
期刊论文
acta physica sinica, 2013, 卷号: 62, 期号: 11, 页码: 117303
Zhang Bai-Qiang, Zheng Zhong-Shan, Yu Fang, Ning Jin, Tang Hai-Ma, Yang Zhi-An
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浏览/下载:20/0
  |  
提交时间:2014/04/09
埋氧注氮对SIMOX SOI材料埋氧中辐射感生正电荷密度的影响
会议论文
作者:
于芳
;
郑中山
;
刘忠立
;
李宁
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  |  
浏览/下载:8/0
  |  
提交时间:2015/11/10
高剂量注氮对注氧隔离硅材料埋氧层中正电荷密度的影响
期刊论文
物理学报, 2011
作者:
郑中山
收藏
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2012/11/14
Precipitates and defects in silicon co-implanted with helium and oxygen
期刊论文
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2011, 卷号: 269, 期号: 8, 页码: 739-744
作者:
Zhang, Y.
;
Yang, Y. T.
;
Zhang, L. Q.
;
Li, B. S.
;
Zhang, C. H.
收藏
  |  
浏览/下载:12/0
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提交时间:2015/10/15
Ion implantation
SIMOX
Vacancy-type defects
Precipitates
TEM
A -188 v 7.2 Ω·mm2, P-channel high voltage device formed on an epitaxy-SIMOX substrate
期刊论文
2011, 卷号: 20
作者:
Wu, Li-Juan[1,2]
;
Hu, Sheng-Dong[3]
;
Zhang, Bo[1]
;
Luo, Xiao-Rong[1]
;
Li, Zhao-Ji[1]
收藏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2019/11/30
A --188 V 7.2 Ω·mm2, P-channel high voltage device formed on an epitaxy-SIMOX substrate
期刊论文
2011, 卷号: 20, 页码: 327-334
作者:
Wu Li-Juan[1,2]
;
Hu Sheng-Dong[3]
;
Zhang Bo[1]
;
Luo Xiao-Rong[1]
;
Li Zhao-Ji[1]
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/11/30
A-188 V 7.2Ω·mm~2,P-channel high voltage device formed on an epitaxy-SIMOX substrate A-188 V 7.2Ω·mm~2,P-channel high voltage device formed on an epitaxy-SIMOX substrate
期刊论文
2011, 页码: 331-338
作者:
Wu LJ(吴丽娟)
;
Hu SD(胡盛东)
;
Zhang B(张波)
;
Luo XR(罗小蓉)
;
Li ZJ(李肇基)
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/11/30
A-188 V 7.2 Omega . mm(2), P-channel high voltage device formed on an epitaxy-SIMOX substrate
期刊论文
2011, 卷号: 20
作者:
Wu Li-Juan[1,2]
;
Hu Sheng-Dong[3]
;
Zhang Bo[1]
;
Luo Xiao-Rong[1]
;
Li Zhao-Ji[1]
收藏
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/11/30
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