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科研机构
上海光学精密机械研... [13]
内容类型
期刊论文 [13]
发表日期
2008 [3]
2007 [2]
2006 [1]
2005 [7]
学科主题
光学薄膜 [13]
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学科主题:光学薄膜
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45
50
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70
75
80
85
90
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Influences of CO
2
laser annealing on mechanical and laser-induced damage properties of ZrO
2
thin films
期刊论文
optik, 2008, 卷号: 119, 期号: 13, 页码: 624, 629
Wei Chaoyang
;
邓德刚
;
Tian Guanglei
;
贺洪波
;
邵建达
;
范正修
收藏
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浏览/下载:658/134
  |  
提交时间:2009/09/22
CO2 laser annealing
Weak absorption
Laser-induced damage threshold
Residual stress
退火对HfO2/SiO2多层膜残余应力的影响
期刊论文
Chin. Opt. Lett., 2008, 卷号: 6, 期号: 3, 页码: 225, 227
申雁鸣
;
韩朝霞
;
邵建达
;
邵淑英
;
贺洪波
收藏
  |  
浏览/下载:1250/170
  |  
提交时间:2009/09/22
退火
Annealing effects
HfO2/SiO2多层膜
Electron beam evaporation
残余应力
Y
2
O
3
stabilized ZrO
2
thin films deposited by electron-beam evaporation: Optical properties, structure and residual stresses
期刊论文
vacuum, 2008, 卷号: 83, 期号: 2, 页码: 366, 371
Xiao Qi-Ling
;
Xu Cheng
;
邵淑英
;
邵建达
;
范正修
收藏
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浏览/下载:640/164
  |  
提交时间:2009/09/22
YSZ thin films
Residual stress
Electron-beam evaporation
Refractive index
Structural properties
薄膜厚度对HfO2薄膜残余应力的影响
期刊论文
稀有金属材料与工程, 2007, 卷号: 36, 期号: 3, 页码: 412, 415
申雁鸣
;
贺洪波
;
邵淑英
;
范正修
;
邵建达
收藏
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浏览/下载:1100/176
  |  
提交时间:2009/09/22
HfO2薄膜
HfO2 thin film
残余应力
residual stress
膜厚
thin film thickness
电子束蒸发
electron beam evaporation
沉积温度对LaF3薄膜性能的影响
期刊论文
强激光与粒子束, 2007, 卷号: 19, 期号: 9, 页码: 1507, 1511
余华
;
崔云
;
申雁鸣
;
齐红基
;
邵建达
;
范正修
收藏
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浏览/下载:1094/222
  |  
提交时间:2009/09/22
Crystal structure
Deposition
Grain size and shape
Interferometers
Lanthanum compounds
Refractive index
Residual stresses
Spectrophotometers
Temperature
X ray diffraction
沉积温度对电子束蒸发HfO2薄膜残余应力的影响
期刊论文
中国激光, 2006, 卷号: 33, 期号: 6, 页码: 827, 831
申雁鸣
;
贺洪波
;
邵淑英
;
范正修
收藏
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浏览/下载:725/114
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提交时间:2009/09/22
薄膜
HfO2薄膜
残余应力
沉积温度
基底
电子束蒸发
Study of thermal behaviors in CO2 laser irradiated glass
期刊论文
opt. eng., 2005, 卷号: 44, 期号: 4, 页码: 44202
Wei CY
;
贺洪波
;
Deng Z
;
邵建达
;
范正修
收藏
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浏览/下载:606/121
  |  
提交时间:2009/09/22
laser induced damage
temperature field
stress
沉积温度对HfO2薄膜残余应力的影响
期刊论文
强激光与粒子束, 2005, 卷号: 17, 期号: 12, 页码: 1812, 1816
申雁鸣
;
贺洪波
;
邵淑英
;
范正修
;
邵建达
收藏
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浏览/下载:564/107
  |  
提交时间:2009/09/22
HfO2薄膜
HfO
2
films
残余应力
Residual stress
沉积温度
Deposition temperature
微结构
Microstructure
X射线衍射
XRD
氧分压对电子束蒸发SiO2薄膜机械性质和光学性质的影响
期刊论文
光子学报, 2005, 卷号: 34, 期号: 5, 页码: 742, 745
邵淑英
;
范正修
;
邵建达
;
沈卫星
;
江敏华
收藏
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浏览/下载:688/105
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提交时间:2009/09/22
SiO2薄膜
SiO_2 films
氧分压
Oxygen partial pressure
残余应力
Residual stress
表面形貌
Surface morphology
折射率
Refractive index
电子束蒸发
Electron beam evaporation
薄膜应力研究
期刊论文
激光与光电子学进展, 2005, 卷号: 42, 期号: 1, 页码: 22, 27
邵淑英
;
范正修
;
范瑞瑛
;
邵建达
收藏
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浏览/下载:866/151
  |  
提交时间:2009/09/22
薄膜应力
thin films
研究
stress
新进展
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