薄膜应力研究

	薄膜应力研究; A Review of Study of Stress in Thin Films
	邵淑英 ; 范正修 ; 范瑞瑛 ; 邵建达
刊名	激光与光电子学进展
	2005
卷号	42 期号:1 页码:22
关键词	薄膜应力 thin films 研究 stress 新进展
ISSN号	1006-4125
其他题名	A Review of Study of Stress in Thin Films
中文摘要	综述了近几年薄膜应力研究的重点及新进展，探讨了薄膜应力研究的发展方向。; The research emphasis and the latest advance of stress study in thin films are reviewed, and the dominant direction of the study of thin solid film stress is discussed.
学科主题	光学薄膜
分类号	TN948.6;TQ051.3
收录类别	0
语种	中文
公开日期	2009-09-22 ; 2010-10-12
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4144]
专题	上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心
推荐引用方式 GB/T 7714	邵淑英,范正修,范瑞瑛,等. 薄膜应力研究, A Review of Study of Stress in Thin Films[J]. 激光与光电子学进展,2005,42(1):22, 27.
APA	邵淑英,范正修,范瑞瑛,&邵建达.(2005).薄膜应力研究.激光与光电子学进展,42(1),22.
MLA	邵淑英,et al."薄膜应力研究".激光与光电子学进展 42.1(2005):22.