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Novel metallization processes for sub-100 nm magnetic tunnel junction devices 期刊论文
Microelectronic Engineering, 2019
作者:  Kaihua Cao;  Hushan Cui;  Youguang Zhang;  Huagang Xiong;  Jiaqi Wei
收藏  |  浏览/下载：34/0  |  提交时间：2019/12/17
Novel metallization processes for sub-100 nm magnetic tunnel junction devices 期刊论文
Microelectronic Engineering, 2019, 卷号: Vol.209, 页码: 6-9
作者:  Kaihua Cao;  Hushan Cui;  Youguang Zhang;  Huagang Xiong;  Jiaqi Wei
收藏  |  浏览/下载：34/0  |  提交时间：2019/12/17
Novel metallization processes for sub-100 nm magnetic tunnel junction devices 期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2019, 卷号: 209, 页码: 6-9
作者:  Cao, Kaihua;  Cui, Hushan;  Zhang, Youguang;  Xiong, Huagang;  Wei, Jiaqi
收藏  |  浏览/下载：34/0  |  提交时间：2019/12/30
中国第一台高性能白光中子源——CSNS反角白光中子源及其应用 期刊论文
原子能科学技术, 2019, 卷号: 53, 页码: 2012-2022
作者:  唐靖宇;  安琪;  白怀勇;  鲍杰;  曹平
收藏  |  浏览/下载：37/0  |  提交时间：2019/12/30
中国散裂中子源反角白光中子束流参数的初步测量 期刊论文
物理学报, 2019, 页码: 38-47
作者:  鲍杰;  陈永浩;  张显鹏;  栾广源;  任杰
收藏  |  浏览/下载：23/0  |  提交时间：2019/12/30
Miniaturization of CMOS 期刊论文
MICROMACHINES, 2019, 卷号: 10
作者:  Radamson, Henry H.;  He, Xiaobin;  Zhang, Qingzhu;  Liu, Jinbiao;  Cui, Hushan
收藏  |  浏览/下载：34/0  |  提交时间：2019/12/30
中国散裂中子源反角白光中子束流参数 的初步测量 期刊论文
物理学报, 2019, 卷号: 68, 页码: 1-10
作者:  鲍杰;  陈永浩;  张显鹏;  栾广源;  任杰
收藏  |  浏览/下载：40/0  |  提交时间：2019/12/30
中国第一台高性能白光中子源——CSNS反角白光中子源及其应用 期刊论文
原子能科学技术, 2019, 期号: 10, 页码: 2012-2022
作者:  唐靖宇;  安琪;  白怀勇;  鲍杰;  曹平
收藏  |  浏览/下载：41/0  |  提交时间：2019/12/27
Physical Insights on Quantum Confinement and Carrier Mobility in Si, Si0.45Ge0.55, Ge Gate-All-Around NSFET for 5 nm Technology Node 期刊论文
Journal of the Electron Devices Society, 2018
作者:  Gu J(顾杰);  Wen Yang;  Wu ZH(吴振华);  Yin HX(殷华湘);  Wang WW(王文武)
收藏  |  浏览/下载：30/0  |  提交时间：2019/05/05
Improving sidewall roughness by combined RIE - Bosch process 期刊论文
Materials Science in Semiconductor Processing, 2018
作者:  Li JF(李俊峰);  Fu JY(傅剑宇);  Li JJ(李俊杰);  Yu JH(余嘉晗);  Liu RW(刘瑞文)
收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2019/05/20

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