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半导体研究所 [56]
内容类型
期刊论文 [50]
会议论文 [6]
发表日期
2020 [1]
2012 [1]
2011 [8]
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Welding of reduced graphene oxide with high quality and sizeable lateral size by coupling reaction
期刊论文
MATERIALS LETTERS, 2020, 卷号: 261, 页码: 127010
作者:
Ting Wang
;
Zhiduo Liu
;
Gang Wang
;
Qinglei Guo
;
Menghan Zhao
;
Wei Zhu
;
Jiurong Li
;
Xiaohu Zheng
;
Da Chen
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2021/11/30
Microstructural and mechanical characteristics of laser welding of Ti6Al4V and lead metal
期刊论文
journal of materials processing technology, 2012, 卷号: 212, 期号: 7, 页码: 1520-1527
Zhao, SS
;
Yu, G
;
He, XL
;
Hu, YW
收藏
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浏览/下载:6/0
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提交时间:2013/02/05
Ordered InAs nanodots formed on the patterned GaAs substrate by molecular beam epitaxy
期刊论文
materials science in semiconductor processing, 2011, 卷号: 14, 期号: 2, 页码: 108-113
Jin, L
;
Zhou, HY
;
Qu, SC
;
Wang, ZG
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浏览/下载:91/0
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提交时间:2012/02/06
Patterned substrate
Ion implantation
Ordered nanodots
Anodic aluminum oxide
QUANTUM DOTS
ISLANDS
GROWTH
SEMICONDUCTORS
NANOSTRUCTURES
COMPUTATION
INGAAS
Investigation of cracks in GaN films grown by combined hydride and metal organic vapor-phase epitaxial method
期刊论文
nanoscale research letters, 2011, 卷号: 6, 页码: article no.69
作者:
Song HP
;
Wei HY
;
Li CM
;
Jiao CM
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浏览/下载:66/4
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提交时间:2011/07/05
CATHODOLUMINESCENCE CHARACTERIZATION
GALLIUM NITRIDE
STRESSES
LAYERS
HETEROSTRUCTURE
DEPOSITION
CONSTANTS
MECHANISM
SAPPHIRE
STRAIN
Infrared response of the lateral PIN structure of a highly titanium-doped silicon-on-insulator material
期刊论文
chinese physics b, 2011, 卷号: 20, 期号: 10, 页码: 106104
Ma, ZH
;
Cao, Q
;
Zuo, YH
;
Zheng, J
;
Xue, CL
;
Cheng, BW
;
Wang, QM
收藏
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2012/02/06
infrared response
ion implantation
rapid thermal annealing
intermediate band solar cell
PHOTODIODE
Influence of high-dose nitrogen implantation on the positive charge density of the buried oxide of silicon-on-insulator wafers
期刊论文
acta physica sinica, 2011, 卷号: 60, 期号: 5, 页码: article no.56104
作者:
Yu F
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浏览/下载:93/6
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提交时间:2011/07/06
separation by oxygen implantation
buried oxide
nitrogen implantation
positive charge density
RADIATION HARDNESS
IMPLANTING NITROGEN
ION-IMPLANTATION
IMPROVEMENT
TECHNOLOGY
OXYGEN
LAYER
Effect of high temperature AlGaN buffer thickness on GaN Epilayer grown on Si(111) substrates
期刊论文
journal of materials science-materials in electronics, 2011, 卷号: 22, 期号: 8, 页码: 1028-1032
作者:
Pan X
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浏览/下载:20/0
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提交时间:2011/09/14
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
PHASE EPITAXY
ALN INTERLAYERS
FILMS
STRESS
LAYERS
DISLOCATIONS
REDUCTION
DENSITY
DIODES
Effect of AlN buffer thickness on GaN epilayer grown on Si(1 1 1)
期刊论文
materials science in semiconductor processing, 2011, 卷号: 14, 期号: 2, 页码: 97-100
Wei, M
;
Wang, XL
;
Pan, X
;
Xiao, HL
;
Wang, CM
;
Hou, QF
;
Wang, ZG
收藏
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浏览/下载:26/0
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提交时间:2012/01/06
GaN
MOCVD
Si(111)
AlN
VAPOR-PHASE EPITAXY
LAYERS
SUBSTRATE
MOCVD
STRESS
Growth of GaN film on Si (111) substrate using AlN sandwich structure as buffer
期刊论文
journal of crystal growth, 2011, 卷号: 318, 期号: 1, 页码: 464-467
作者:
Pan X
收藏
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浏览/下载:81/5
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提交时间:2011/07/05
Sandwich structure
Stress
Aluminum nitride
Gallium nitride
Silicon
PHONON DEFORMATION POTENTIALS
WURTZITE ALN
SILICON
STRESS
TRANSISTORS
EPITAXY
LAYERS
The impact of annealing temperature on the structural and magnetization properties of Sm implanted GaN films
期刊论文
materials letters, 2011, 卷号: 65, 期号: 4, 页码: 667-669
作者:
Liu C
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浏览/下载:63/7
  |  
提交时间:2011/07/05
Diluted magnetic semiconductors (DMSs)
Ion implantation
Room-temperature ferromagnetic properties
ROOM-TEMPERATURE
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