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浏览/检索结果: 共8条，第1-8条 帮助 限定条件 发表日期：2007     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 一种新颖的半圆形缺陷地结构微带线 期刊论文 电子学报, 2007, 期号: 06 林水洋; 顾建忠; 田为中; 孙晓玮 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2012/01/06 SIMOX  埋氧  注氮  固定正电荷密度   锂离子电池高容量硅负极嵌锂过程中的表面成膜研究 期刊论文 无机材料学报, 2007, 期号: 03 文钟晟; 王可; 解晶莹 收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2012/01/06 SIMOX  SOI  总剂量辐照效应  Pseudo-MOS   Effect of interfacial reactions on the reliability of lead-free assemblies after board level drop tests 期刊论文 JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS, 2007, 卷号: 36, 期号: 9, 页码: 1129-1136 Xia, Y; Lu, C; Xle, X 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2012/03/24 SOLDER JOINTS  PACKAGE RELIABILITY  COMPOUND FORMATION  TFBGA PACKAGES  IC PACKAGES  IMPACT  CU  INTERCONNECTIONS  METALLIZATION  SIMULATION   利用Pseudo-MOS方法研究改性SIMOX SOI材料的总剂量辐照效应 学位论文 硕士: 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所）  , 2007 杨慧   收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2012/03/06 SOI  SIMOX  总剂量辐照效应  硅注入  Pseudo-MOS     纳米硅在SIMOX材料抗辐照加固中的应用研究 学位论文 博士: 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所）  , 2007 钱聪   收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2012/03/06 SIMOX  硅离子注入  纳米硅  总剂量辐照效应  Pseudo-MOS     Process and pad design optimization for 01005 passive component surface mount assembly 期刊论文 SOLDERING & SURFACE MOUNT TECHNOLOGY, 2007, 卷号: 19, 页码: 34-44 作者:  Wang, Yu[1];  Olorunyomi, Michael[2];  Dahlberg, Martin[3];  Djurovic, Zoran[4];  Anderson, Johan[5] 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/05/10 electrical components  size reduction  printed circuits   Effect of implantation of nitrogen into SIMOX buried oxide on its fixed positive charge density 期刊论文 acta physica sinica, 2007, 卷号: 56, 期号: 9, 页码: 5446-5451 Zheng, ZS (Zheng Zhong-Shan); Zhang, EX (Zhang En-Xia); Liu, ZL (Liu Zhong-Li); Zhang, ZX (Zhang Zheng-Xuan); Li, N (Li Ning); Li, GH (Li Guo-Hua) 收藏  |  浏览/下载：34/0  |  提交时间：2010/03/29 SIMOX   Fabrication of nanoscale metallic air-bridges by introducing a SiO2 sacrificial layer 期刊论文 materials science in semiconductor processing, 2007, 卷号: 10, 期号: 39908, 页码: 194-199 Zhang, Y; Liu, J; Li, Y; Yang, FH 收藏  |  浏览/下载：64/2  |  提交时间：2010/03/08 nanoscale metallic air-bridge  sacrificial layer  electron-beam lithography