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Effect of La Addition on the Electrical Characteristics and Stability of Solution-Processed LaInO Thin-Film Transistors With High-k ZrO2 Gate Insulator
期刊论文
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2018, 卷号: 65, 页码: 526-532
作者:
Zhao, Cheng-Yu[1]
;
Li, Jun[2]
;
Zhong, De-Yao[3]
;
Huang, Chuan-Xin[4]
;
Zhang, Jian-Hua[5]
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2019/04/24
ZrO2 gate insulator
lanthanum(La) indium oxide (LaInO) thin-film transistors (TFTs)
solution process
stability
High Performance ZnSnO Thin Film Transistor with ZrO2 Gate Insulator Formed by Atomic Layer Deposition
期刊论文
JOURNAL OF NANOELECTRONICS AND OPTOELECTRONICS, 2018, 卷号: 13, 页码: 214-220
作者:
Li, Jun[1]
;
Huang, Chuan-Xin[2]
;
Zhao, Cheng-Yu[3]
;
Ding, Xingwei[4]
;
Zhang, Jian-Hua[5]
收藏
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2019/04/24
ZTO TFTs
ALD ZrO2
Stability
Density of States
Diamond based field-effect transistors with SiNX and ZrO2 double dielectric layers
期刊论文
DIAMOND AND RELATED MATERIALS, 2016, 卷号: 69
作者:
Wang, W
;
Fu, K(付凯)
;
Hu, C
;
Li, FN
;
Liu, ZC
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2017/03/11
ZrO2 insulator modified by a thin Al2O3 film to enhance the performance of InGaZnO thin-film transistor
期刊论文
MICROELECTRONICS RELIABILITY, 2014, 卷号: 54, 页码: 2401-2405
作者:
Ding, Xingwei[1]
;
Zhang, Jianhua[2]
;
Zhang, Hao[3]
;
Ding, He[4]
;
Huang, Chuanxin[5]
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2019/04/30
IGZO thin-film transistor
ZrO2-Al2O3 bilayer gate insulator
ALD
Bias stability
The electrical and switching properties of a metal-ferroelectric (Bi3.15Nd0.85Ti3O12)-insulator (Y2O3-stabilized ZrO2)-silicon diode
期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2010, 卷号: 97, 页码: 3
作者:
Zhang, Y.
;
Zhong, X. L.
;
Wang, J. B.
;
Song, H. J.
;
Ma, Y.
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2018/05/31
Electrical conduction mechanism in metal-ZrO2-silicon capacitor structures
期刊论文
2010, 2010
Wang, MT
;
Wang, TH
;
Lee, JYM
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2017/06/15
CURRENT TRANSPORT
GATE DIELECTRICS
ZRO2
BARRIERS
STACKS
Electrochemistry
Materials Science, Coatings & Films
Electrical and interfacial characteristics of nanolaminate (Al2O3/ZrO2/Al2O3) gate stack on fully depleted SiGe-on-insulator
期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2006, 卷号: 9, 期号: 6, 页码: 959-963
Di, ZF
;
Zhang, M
;
Liu, WL
;
Shen, QW
;
Song, ZT
;
Lin, CL
;
Huang, AP
;
Chu, PK
收藏
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2012/03/24
OXIDATION
MOBILITY
Studies on Al2O3/ZrO2/Al2O3 high K gate dielectrics applied in a fully depleted SOI MOSFET
期刊论文
METALS AND MATERIALS INTERNATIONAL, 2004, 卷号: 10, 期号: 5, 页码: 475-478
Lin, CL
;
Zhang, NL
;
Shen, QW
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2012/03/24
ZRO2/SIO2/SI LAYERED STRUCTURE
THERMAL-STABILITY
CAPACITORS
FILM
ZRO2
HFO2
Memory and negative photoconductivity effects of Ge nanocrystals embedded in ZrO2/Al2O3 gate dielectrics
期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2003, 卷号: 83, 期号: 1, 页码: 138
Wan, Q
;
Zhang, NL
;
Liu, WL
;
Lin, CL
;
Wang, TH
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2013/09/18
SI NANOCRYSTALS
SEMICONDUCTOR STRUCTURE
ROOM-TEMPERATURE
SILICON
FILMS
SIO2-FILMS
STABILITY
GROWTH
MATRIX
Microstructural and electrical properties of ZrO2 thin films prepared on silicon on insulator with thin top silicon
期刊论文
CHINESE PHYSICS LETTERS, 2003, 卷号: 20, 期号: 2, 页码: 273-276
Zhang, NL
;
Song, ZT
;
Shen, QW
;
Lin, CL
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2012/03/24
FIELD-EFFECT-TRANSISTORS
K GATE DIELECTRICS
THERMAL-STABILITY
RELIABILITY
SI
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