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A Modified Single Pulse Method for Transient Thermal Impedance (TTI) Measurement of VDMOSFET Relates Gate Bias to the TTI Results
期刊论文
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE, 2018, 卷号: 18, 页码: 383-391
作者:
Tang, Yankun
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2019/11/19
Thermal character
MOSFET
transient thermal impedance
gate bias
pulse
功率VDMOSFET核心工艺参数的优化研究
期刊论文
半导体技术, 2011, 卷号: 36, 期号: 9, 页码: 693-696
作者:
赵志桓
;
姜维宾
;
韩希方
;
张礼
;
李惠军
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2019/12/23
功率
优化
仿真
工艺参数
可制造性设计
验证
平面型VDMOS功率管的设计与研究
学位论文
: 上海大学, 2004
作者:
张珺[1]
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2019/05/10
VDMOSFET
准饱和效应
低压应用的高性能甚高频功率VDMOSFETs(英文)
期刊论文
半导体学报/Pan Tao Ti Hsueh Pao/Chinese Journal of Semiconductors, 2001, 卷号: 22, 期号: 8, 页码: 975-978
作者:
刘英坤
;
梁春广
;
邓建国
;
张颖秋
;
郎秀兰
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2015/04/27
低压
梯形栅结构
钼栅工艺
甚高频功率VDMOSFET
Molybdenum gate technology
Terraced gate structure
一种抗辐射加固功率器件──VDMNOSFET(英文)
期刊论文
半导体学报/Pan Tao Ti Hsueh Pao/Chinese Journal of Semiconductors, 2001, 卷号: 22, 期号: 7, 页码: 841-845
作者:
刘英坤
;
梁春广
;
王长河
;
李思渊
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/04/27
抗辐射加固
双层栅介质
功率VDMNOSFET
Double layer gate dielectric
Radiation hardening
Semiconductor field effect transistors VDMNOSFET
A high frequency, high power VDMOSFET
会议论文
6th International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology, SHANGHAI, PEOPLES R CHINA, OCT 22-25, 2001
作者:
Liu, YK
;
Deng, JG
;
Lang, XL
;
Zhang, YQ
;
Wu, J
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2015/07/31
Molybdenum film technology for power metal oxide semiconductor field effect transistor gate electrode applications
期刊论文
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 2000, 卷号: 39, 期号: 7A, 页码: 3915-3918
-
收藏
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2015/05/25
Mo film
MOS gate
power VDMOSFET
stability
reliability
400MHz,CW 300W VDMOS功率场效应晶体管
期刊论文
半导体技术, 2000, 期号: 2, 页码: 26-28
作者:
刘英坤
;
王占利
;
何玉樟
;
郎秀兰
;
张大立
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2015/04/27
高频大功率
Mo栅工艺
VDMOSFET
Research on a 500 V/11 A VDMOSFET
期刊论文
Hsi-An Chiao Tung Ta Hsueh/Journal of Xi'an Jiaotong University, 1998, 卷号: 32, 期号: 5, 页码: [d]22-25, 30
作者:
Chen, Ning
;
Zhu, Changchun
;
Wu, Yiqing
;
Sin, Johnny K.O.
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提交时间:2020/01/07
Power device
Vertical double diffusion MOS
500 V/11 A VDMOSFET 的研究
期刊论文
西安交通大学学报, 1998, 期号: 5, 页码: 24-27,32
作者:
陈宁
;
朱长纯
;
吴一清
;
单建安
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提交时间:2020/01/07
MOS结构
场效应
功率器件
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