×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
光电技术研究所 [37]
清华大学 [5]
北京大学 [4]
半导体研究所 [4]
上海光学精密机械研究... [4]
电工研究所 [3]
更多...
内容类型
期刊论文 [58]
学位论文 [7]
会议论文 [4]
其他 [4]
专利 [1]
发表日期
2022 [1]
2020 [2]
2019 [3]
2017 [1]
2016 [3]
2015 [11]
更多...
学科主题
光电子学 [3]
Alignment [1]
Collimatio... [1]
Computer s... [1]
Demodulati... [1]
Diffractio... [1]
更多...
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共74条,第1-10条
帮助
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
Exploration of a Flexible Metasurface for Strain Sensors: A Perspective from 2D Grating Fabrication to Spectral Characterization
期刊论文
Applied Sciences-Basel, 2022, 卷号: 12, 期号: 19, 页码: 12
作者:
H. Hu and Bayanheshig
收藏
  |  
浏览/下载:1/0
  |  
提交时间:2023/06/14
Intensity modulation based optical proximity optimization for the maskless lithography
期刊论文
OPTICS EXPRESS, 2020, 卷号: 28, 期号: 1, 页码: 548-557
作者:
Liu, Jianghui
;
Liu, Junbo
;
Deng, Qingyuan
;
Feng, Jinhua
;
Zhou, Shaolin
收藏
  |  
浏览/下载:19/0
  |  
提交时间:2021/05/11
Nanofabrication of 50 nm zone plates through e-beam lithography with local proximity effect correction for x-ray imaging
期刊论文
CHINESE PHYSICS B, 2020, 卷号: 29, 期号: 4, 页码: -
作者:
Zhu, JY
;
Zhang, SC
;
Xie, SS
;
Xu, C
;
Zhang, LJ
收藏
  |  
浏览/下载:32/0
  |  
提交时间:2021/09/06
Large range nano alignment for proximity lithography using complex grating
期刊论文
Optics and Laser Technology, 2019, 卷号: 112, 页码: 101-106
作者:
Tang, Yan
;
Liu, Junbo
;
Yang, Yong
;
Hu, Song
;
Zhao, Lixin
收藏
  |  
浏览/下载:7/0
  |  
提交时间:2021/05/06
Design and fabrication of an artificial compound eye for multi-spectral imaging
期刊论文
Micromachines, 2019, 卷号: 10, 期号: 3
作者:
Cao, Axiu
;
Pang, Hui
;
Zhang, Man
;
Shi, Lifang
;
Deng, Qiling
收藏
  |  
浏览/下载:19/0
  |  
提交时间:2021/05/06
artificial compound eye
multi-spectral imaging
lithography
spectral splitting
Quality evaluation of solar magnetic field images at EUV wavelengths in digital image correlation method
期刊论文
Journal of Computational Methods in Sciences and Engineering, 2019, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 1109-1123
作者:
Y.Liu
;
K.-F.Song
;
J.-L.Ma
;
X.-D.Wang
;
Z.-W.Han
收藏
  |  
浏览/下载:0/0
  |  
提交时间:2020/08/24
Image quality,Displacement measurement,Extreme ultraviolet lithography,Image analysis,Magnetic fields,Quality control,Strain measurement
Proximity correction and resolution enhancement of plasmonic lens lithography far beyond the near field diffraction limit
期刊论文
RSC Advances, 2017, 卷号: 7, 期号: 20, 页码: 12366-12373
作者:
Luo, Yunfei
;
Liu, Ling
;
Zhang, Wei
;
Kong, Weijie
;
Zhao, Chengwei
收藏
  |  
浏览/下载:23/0
  |  
提交时间:2018/11/20
Plasmons - Scanning probe microscopy
Highly scalable resistive switching memory in metal nanowire crossbar arrays fabricated by electron beam lithography
期刊论文
J. Vac. Sci. Technol. B, 2016
作者:
Niu JB(牛洁斌)
收藏
  |  
浏览/下载:12/0
  |  
提交时间:2017/05/11
UV spectrum-integral Talbot lithography for amplitude periodic micro-grating fabrication
期刊论文
Proceedings of SPIE: 8th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies: Design, Manufacturing, and Testing of Micro- and Nano-Optical Devices and Systems; and Smart Structures and Materials, 2016, 卷号: 9685, 页码: 96850M
作者:
Deng, Qian
;
Liu, Junbo
;
Zhou, Shaolin
;
Tang, Yan
;
Zhao, Lixin
收藏
  |  
浏览/下载:34/0
  |  
提交时间:2018/06/14
Crystal Symmetry
Frequency Doublers
Lithography
Manufacture
Microoptics
Optical Devices
Phase Shift
Ultraviolet Spectroscopy
基于遗传算法的光刻机光源掩模优化技术研究
学位论文
博士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2016
作者:
杨朝兴
收藏
  |  
浏览/下载:65/0
  |  
提交时间:2016/11/28
光刻
分辨率增强技术
光源掩模优化
遗传算法
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace