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科研机构
微电子研究所 [2]
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期刊论文 [2]
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2016 [2]
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Investigation of the Interface Quality and Reliability of 4H-SiC MOS Structure with NO and Forming Gas Annealing Treatment
期刊论文
Materials Science Forum, 2016
作者:
Wang YY(王弋宇)
;
Peng CY(彭朝阳)
;
Bai Y(白云)
;
Tang YD(汤益丹)
;
Wu J(吴佳)
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提交时间:2017/05/08
Effects of combined NO and forming gas annealing on interfacial properties and oxide reliability of 4H-SiC MOS structures
期刊论文
Microelectronics Reliability, 2016
作者:
Liu XY(刘新宇)
;
Wu J(吴佳)
;
Wang YY(王弋宇)
;
Peng CY(彭朝阳)
;
Li CZ(李诚瞻)
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提交时间:2017/05/08
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