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大连理工大学 [19]
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期刊论文 [15]
会议论文 [4]
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2019 [1]
2018 [1]
2017 [1]
2015 [3]
2014 [1]
2013 [3]
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Striations in dual-frequency capacitively coupled CF4 plasmas: the role of the high-frequency voltage amplitude
期刊论文
PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, 2019, 卷号: 28
作者:
Liu, Yong-Xin
;
Donko, Zoltan
;
Korolov, Ihor
;
Schungel, Edmund
;
Wang, You-Nian
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2019/12/02
striations
electronegative plasma
low pressure
capacitively coupled RF discharge
ALE of SiO2 by alternating CF4 plasma with energetic Ar+ plasma beams
会议论文
7th international conference on microelectronics and plasma technology
作者:
Dong W(董婉)
;
Dai ZL(戴忠玲)
;
Song YH(宋远红)
;
Wang YN(王友年)
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2019/12/02
Accuracy control of SiO2 etching in inductively coupled CF4/Ar plasmas
会议论文
1st Asia-Pacific Conference on Plasma Physics, 18-23, 09.2017
作者:
Dai ZL(戴忠玲)
;
Wang YN(王友年)
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/02
Modeling and experimental investigation of the plasma uniformity in CF4/O-2 capacitively coupled plasmas, operating in single frequency and dual frequency regime
期刊论文
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 2015, 卷号: 33, 页码: -
作者:
Zhang, Yu-Ru
;
Tinck, Stefan
;
De Schepper, Peter
;
Wang, You-Nian
;
Bogaerts, Annemie
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2019/12/09
Modeling and experimental investigation of the plasma uniformity in CF4/O2
期刊论文
J. Vac. Sci. Technol. A, 2015, 卷号: 33
作者:
Zhang YR(张钰如)
;
Wang YN(王友年)
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/09
Heating mode transition in capacitively coupled CF4 discharges: comparison of experiments with simulations
期刊论文
PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, 2015, 卷号: 24, 页码: -
作者:
Liu, Gang-Hu
;
Liu, Yong-Xin
;
Wen, De-Qi
;
Wang, You-Nian
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/12/09
capacitively coupled plasmas
electron heating mode transition
phase resolved optical emission spectroscopy
particle in cell simulation
Absolute CF2 density and gas temperature measurements by absorption spectroscopy in dual-frequency capacitively coupled CF4/Ar plasmas
期刊论文
PHYSICS OF PLASMAS, 2014, 卷号: 21
作者:
Liu, Wen-Yao
;
Xu, Yong
;
Liu, Yong-Xin
;
Peng, Fei
;
Gong, Fa-Ping
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/12/09
Gas ratio effects on the Si etch rate and profile uniformity in an inductively coupled Ar/CF4 plasma
期刊论文
PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, 2013, 卷号: 22, 页码: -
作者:
Zhao, Shu-Xia
;
Gao, Fei
;
Wang, You-Nian
;
Bogaerts, Annemie
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2019/12/11
Mode transition in CF4 + Ar inductively coupled plasma
期刊论文
PHYSICS OF PLASMAS, 2013, 卷号: 20
作者:
Liu, Wei
;
Gao, Fei
;
Zhao, Shu-Xia
;
Li, Xue-Chun
;
Wang, You-Nian
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/11
Determination of Plasma Parameters in a Dual-Frequency Capacitively Coupled CF4 Plasma Using Optical Emission Spectroscopy
期刊论文
PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY, 2013, 卷号: 15, 页码: 885-890
作者:
Liu Wenyao
;
Zhu Aimin
;
Li Xiaosong
;
Zhao Guoli
;
Lu Wenqi
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2019/12/11
dual-frequency capacitively coupled plasma (DF CCP)
gas temperature
electron temperature
fluorine atom concentration
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