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浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 限定条件 学科主题：半导体材料     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Defect properties of as-grown and electron-irradiated Te-doped GaSb studied by positron annihilation 期刊论文 semiconductor science and technology, 2011, 卷号: 26, 期号: 7, 页码: article no.75016 Li H; Zhou K; Pang JB; Shao YD; Wang Z; Zhao YW 收藏  |  浏览/下载：52/10  |  提交时间：2011/07/05 UNDOPED GALLIUM ANTIMONIDE  SELF-DIFFUSION  NATIVE DEFECTS  N-TYPE  CRYSTALS  CATHODOLUMINESCENCE  PHOTOLUMINESCENCE  SEMICONDUCTORS  SPECTROSCOPY  LUMINESCENCE   Enhancement of Exciton-Phonon Interaction in InGaN Quantum Wells Induced by Electron-Beam Irradiation 期刊论文 japanese journal of applied physics, 2009, 卷号: 48, 期号: 2, 页码: art. no. 021001 作者:  Wei XC;  Duan RF;  Ding K 收藏  |  浏览/下载：76/19  |  提交时间：2010/03/08 LOCALIZATION  SEMICONDUCTORS  EMISSION  BOXES  BAND   Effects of annealing time and Si cap layer thickness on the Si/SiGe/Si heterostructures thermal stability 期刊论文 journal of crystal growth, 2001, 卷号: 227, 期号: 0, 页码: 766-769 Gao F; Lin YX; Huang DD; Li JP; Sun DZ; Kong MY; Zeng YP; Li JM; Lin LY 收藏  |  浏览/下载：97/14  |  提交时间：2010/08/12 annealing  molecular beam epitaxy  germanium silicon alloys  semiconducting materials  STRAIN RELAXATION   Effects of annealing time and Si cap layer thickness on the Si/SiGe/Si heterostructures thermal stability 会议论文 11th international conference on molecular beam epitaxy (mbe-xi), beijing, peoples r china, sep 11-15, 2000 Gao F; Lin YX; Huang DD; Li JP; Sun DZ; Kong MY; Zeng YP; Li JM; Lin LY 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2010/11/15 annealing  molecular beam epitaxy  germanium silicon alloys  semiconducting materials  STRAIN RELAXATION   EXCIMER-LASER DOPING OF SPIN-ON DOPANT IN SILICON 期刊论文 applied surface science, 1993, 卷号: 64, 期号: 3, 页码: 259-263 WONG YW; YANG XQ; CHAN PW; TONG KY 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2010/11/15 REACTIVE ATMOSPHERE  BORON  IRRADIATION  SEMICONDUCTORS  JUNCTIONS