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科研机构
半导体研究所 [7]
内容类型
期刊论文 [7]
发表日期
2014 [1]
2003 [3]
2002 [2]
2000 [1]
学科主题
半导体材料 [7]
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学科主题:半导体材料
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Heteroepitaxy of Tetragonal BiFeO3 on Hexagonal Sapphire
期刊论文
acs applied materials & interfaces, 2014, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 2639-2646
Zhao, YJ
;
Yin, ZG
;
Zhang, XW
;
Fu, Z
;
Sun, BJ
;
Wang, JX
;
Wu, JL
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2015/03/19
Strain accommodation of 3C-SiC grown on hydrogen-implanted Si (001) substrate
期刊论文
journal of crystal growth, 2003, 卷号: 257, 期号: 3-4, 页码: 321-325
作者:
Li DB
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浏览/下载:59/0
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提交时间:2010/08/12
substrate
heteroepitaxy
low pressure chemical vapor deposition
semiconducting silicon carbide
COMPLIANT SUBSTRATE
CRITICAL THICKNESS
SILICON
RELAXATION
MECHANISM
DEFECTS
LAYERS
In0.25Ga0.75As growth on low-temperature thin buffer layers formed on GaAs (001) substrate
期刊论文
journal of crystal growth, 2003, 卷号: 247, 期号: 1-2, 页码: 126-130
作者:
Xu B
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浏览/下载:56/0
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提交时间:2010/08/12
dislocation
interfaces
strain
molecular beam epitaxy
semiconductor IIIV materials
MOLECULAR-BEAM EPITAXY
SURFACE-MORPHOLOGY
TECHNOLOGY
GAAS(001)
BEHAVIOR
SI
The growth morphologies of GaN layer on Si(111) substrate
期刊论文
journal of crystal growth, 2003, 卷号: 247, 期号: 1-2, 页码: 91-98
Lu YA
;
Liu XL
;
Lu DC
;
Yuan HR
;
Hu GQ
;
Wang XH
;
Wang ZG
;
Duan XF
收藏
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2010/08/12
Si(111) substrate
heteroepitaxy
metalorganic chemical vapor deposition
GaN
LIGHT-EMITTING-DIODES
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
NUCLEATION LAYERS
BUFFER LAYER
SILICON
SAPPHIRE
NITRIDE
EPITAXY
STRESS
STRAIN
Strain relaxation of InP film directly grown on GaAs patterned compliant substrate
期刊论文
journal of crystal growth, 2002, 卷号: 243, 期号: 1, 页码: 71-76
作者:
Li DB
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浏览/下载:40/0
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提交时间:2010/08/12
dislocation
strain
molecular beam epitaxy
organometallic vapor phase epitaxy
semiconductor III-V materials
CRITICAL THICKNESS
HETEROEPITAXIAL GROWTH
LAYERS
OXIDATION
EPITAXY
Investigation of GaN layer grown on Si(111) substrate using an ultrathin AlN wetting layer
期刊论文
journal of crystal growth, 2002, 卷号: 236, 期号: 1-3, 页码: 77-84
作者:
Han PD
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浏览/下载:74/5
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提交时间:2010/08/12
substrates
heteroepitaxy
metalorganic chemical vapor deposition
gallium compounds
nitrides
INTERMEDIATE LAYER
EPITAXIAL-GROWTH
SILICON
SAPPHIRE
FILM
Hydrogen-dependent lattice dilation in GaN
期刊论文
semiconductor science and technology, 2000, 卷号: 15, 期号: 6, 页码: 619-621
Zhang JP
;
Wang XL
;
Sun DZ
;
Kong MY
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浏览/下载:35/0
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提交时间:2010/08/12
OPTICAL-PROPERTIES
GALLIUM NITRIDE
SAPPHIRE
EPILAYERS
STRESS
SEMICONDUCTORS
ELECTRONS
SILICON
STRAIN
FILMS
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