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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 发表日期：2018     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Molecular Glass Photoresists with High Resolution, Low LER, and High Sensitivity for EUV Lithography 期刊论文 MACROMOLECULAR MATERIALS AND ENGINEERING, 2018, 卷号: 303, 期号: 6 作者:  Peng, Xiaoman;  Wang, Yafei;  Xu, Jian;  Yuan, Hua;  Wang, Liangqian 收藏  |  浏览/下载：32/0  |  提交时间：2019/04/09 Euv  Lithography  Molecular Glasses  Photoresists   Design and fabrication of EUV broadband multilayer mirrors with discrete thicknesses 期刊论文 Guangxue Jingmi Gongcheng/Optics and Precision Engineering, 2018, 卷号: 26, 期号: 10, 页码: 2395-2406 作者:  Kuang, Shang-Qi;  Li, Shuo;  Yang, Hai-Gui;  Huo, Tong-Lin;  Zhou, Hong-Jun 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/09/17 Multilayers  Extreme ultraviolet lithography  Fabrication  Mirrors  Reflection   Detection system of multilayer coating microstructure defects based on differential interference contrast confocal microscopy 期刊论文 Chinese Optics, 2018, 卷号: 11, 期号: 2, 页码: 255-264 作者:  Dai, Cen;  Gong, Yan;  Zhang, Hao;  Li, Dian-Meng;  Xue, Jin-Lai 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2019/09/17 Multilayers  Coatings  Confocal microscopy  Defects  Diffraction  Extreme ultraviolet lithography  Microstructure   极紫外与X射线增反膜表面碳沉积去除技术研究 学位论文 中国科学院大学(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所): 中国科学院大学(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所), 2018 作者:  王依 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/09/23 极紫外  X射线  增反膜  碳沉积  等离子体去除