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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序作者升序作者降序 The application of a helicon plasma source in reactive sputter deposition of tungsten nitride thin films 期刊论文 Plasma Science and Technology, 2022, 卷号: 24 作者:  YANG,Yan;  JI,Peiyu;  LI,Maoyang;  YU,Yaowei;  HUANG,Jianjun 收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2022/12/22 helicon wave plasma  reactive sputtering  tungsten nitride  plasma diagnosis