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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序作者升序作者降序 A RF plasma source with focused magnetic field for material treatment 期刊论文 PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING, 2022 作者:  Zhang, L. P.;  Chang, L.;  Yuan, X. G.;  Zhang, J. H.;  Zhou, H. S. 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2022/12/23 Helicon plasma  Focused magnetic field  IEDF  EEDF