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兰州大学 [12]
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期刊论文 [11]
会议论文 [1]
发表日期
2013 [1]
2004 [1]
2000 [3]
1999 [1]
1996 [2]
1995 [2]
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Optimization of HfO2 growth process by atomic layer deposition (ALD) for high performance charge trapping flash memory application
会议论文
China Semiconductor Technology International Conference 2013, CSTIC 2013, Shanghai, China, March 19, 2013 - March 21, 2013
作者:
Chen, GuoXing
;
Huo, Zongliang
;
Zhao, ShengJie
;
Yang, Xiaonan
;
Liu, ZiYu
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提交时间:2017/01/20
Atomic layer deposition
Charge trapping
Deposition
Flash memory
Hafnium oxides
Physisorption
Semiconductor device manufacture
Charge trapping memory
Charge-trapping flashes
Deposition temperatures
Future designs
Memory applications
Memory performance
Process parameters
Trapping layers
美国高校物理实验教学和管理情况考察报告
期刊论文
大学物理, 2004, 期号: 3, 页码: 42-45
作者:
段家忯
;
曹惠贤
;
王煜
;
潘元胜
;
高立模
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提交时间:2015/04/27
物理实验
教学模式
实验室管理
铁在高压下的结构与磁性的全势的线性Muffin-tin轨道研究
期刊论文
物理学报, 2000, 期号: 12, 页码: 2472-2476
作者:
詹清峰
;
孔勇
;
陈子瑜
;
李发伸
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2015/04/27
FP-LMTO
Bain转变
_′-Fe_3SnN的制备与穆斯堡尔谱研究
期刊论文
兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University, 2000, 卷号: 36, 期号: 2, 页码: 28-31
作者:
赵振杰
;
薛德胜
;
陈子瑜
;
李发伸
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提交时间:2015/04/27
穆斯堡尔光谱学
热处理
γ′-Fe_4N
一种新型颗粒结构微粉的制备与穆斯堡尔谱研究
期刊论文
兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University, 2000, 卷号: 36, 期号: 2, 页码: 32-36
作者:
陈子瑜
;
詹清峰
;
薛德胜
;
李发伸
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提交时间:2015/04/27
内核—表层结构
γ′-Fe_4N
α-Fe
磁记录微粉
内核-表层结构磁粉的制备与性能研究
期刊论文
磁记录材料, 1999, 期号: 4, 页码: 1-4
作者:
陈子瑜
;
詹清峰
;
赵振兴
;
薛德胜
;
李发伸
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2015/04/27
表层结构:7559
比饱和磁化强度:3543
化学稳定性:3182
制备与性能:2771
氮化时间:1880
内核:1782
饱合磁化强度:1372
矫顽力:1251
开放实验室:1079
Fe4N:1074
_′-Fe4N制备的穆斯堡尔谱研究
期刊论文
兰州大学学报, 1996, 期号: 2, 页码: 4
作者:
薛德胜
;
陈子瑜
;
李发伸
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/04/27
γ′-Fe4N
穆斯堡尔光谱学
热处理
反应溅射法制备的软磁铁氮膜
期刊论文
磁记录材料, 1996, 期号: 1, 页码: 23-25
作者:
肖春涛
;
韩建平
;
耿胜利
;
杨正
;
陈子瑜
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/04/27
反应溅射法:7407
软磁铁:3843
软磁性能:3044
晶粒尺寸:2115
晶体形变:1960
有效磁各向异性:1953
有效各向异性:1736
晶粒生长:1450
制备条件:1405
X射线:1361
磁场对共聚反应影响研究
期刊论文
兰州大学学报, 1995, 期号: 2, 页码: 3
作者:
陈子瑜
;
朱晓莉
;
周朝华
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/04/27
共聚反应:7364
共聚物的组成:4160
共聚物组成:2600
百分含量:2228
本体聚合:2084
自由基:1837
竞聚率:1735
反应活性:1479
甲基丙烯酸:1381
电子效应:1373
磁记录用的钡铁氧体粒子尺寸的控制机理研究
期刊论文
磁记录材料, 1995, 期号: 1, 页码: 5-7
作者:
陈子瑜
;
李飞熊
;
朱晓莉
收藏
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2015/04/27
钡铁氧体:7477
粒子尺寸:3505
磁记录:3478
控制机理:3353
热处理温度:1925
颗粒尺寸:1460
热处理条件:832
玻璃基体:819
DTA曲线:804
射线衍射:775
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