QQ客服 官方微博 反馈留言

浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 限定条件 专题：微电子研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序作者升序作者降序 The radiation hardness of the nitrogen-fluorine implanted buried oxide layer in silicon-on-insulator materials against higher total dose irradiation. 期刊论文 SCIENCE CHINA Materials, 2016 作者:  Liu ZL(刘忠立);  Han ZS(韩郑生);  Luo JJ(罗家俊);  Zheng ZS(郑中山) 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2017/05/08 Low-temperature post-deposition annealing investigation for 3D 期刊论文 Applied Physics A Materials Science & Precessing, 2015 作者:  Liu M(刘明);  Ye TC(叶甜春);  Li XK(李新开);  Han YL(韩宇龙);  Jin L(靳磊) 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2016/06/03 Metal Floating Gate Memory Device with SiO2/HfO2 Dual-layer as Engineered Tunneling Barrier 期刊论文 Electron Device Letters, 2014 作者:  Han YL(韩宇龙);  Chen GX(陈国星);  Huo ZL(霍宗亮);  Jin L(靳磊);  Li XK(李新开) 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2015/04/15 Low temperature atomic layer deposited HfO2 for high performance charge trapping flash memory application 期刊论文 semiconductor science and technology, 2014 作者:  Jin L(靳磊);  Huo ZL(霍宗亮);  Zhao SJ(赵盛杰);  Han YL(韩宇龙);  Chen GX(陈国星) 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2015/04/15 Visualization on Charge Distribution Behavior in Thickness-Scalable HfO2 Trapping Layer by In-situ Electron Holography and Kelvin Probe Force Microscopy Technology 会议论文 作者:  Liu M(刘明);  Han YL(韩宇龙);  Huo ZL(霍宗亮);  Li XK(李新开) 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2014/10/22