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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 限定条件 专题：武汉大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Reduced Contact Resistance Between Meta and n-Ge by Insertion of ZnO with Argon Plasma Treatment 期刊论文 NANOSCALE RESEARCH LETTERS, 2018, 卷号: 13 作者:  Zhang, Yi;  Han, Genquan;  Wu, Hao;  Wang, Xiao;  Liu, Yan 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/05 Germanium  Fermi-level pinning  Ohmic contact  Argon plasma  ZnO   Reduced Contact Resistance Between Metal and n-Ge by Insertion of ZnO with Argon Plasma Treatment 期刊论文 Nanoscale Research Letters, 2018, 卷号: 13 作者:  Zhang, Yi;  Han, Genquan;  Wu, Hao;  Wang, Xiao;  Liu, Yan 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/05