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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 专题：武汉大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Negative differential resistance effect induced by metal ion implantation in SiO2film for multilevel RRAM application 期刊论文 Nanotechnology, 2018, 卷号: 29, 期号: 5 作者:  Wu, Facai;  Si, Shuyao;  Shi, Tuo;  Zhao, Xiaolong;  Liu, Qi 收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2019/12/05 Negative differential resistance effect induced by metal ion implantation in SiO2film for multilevel RRAM application 期刊论文 Nanotechnology, 2018, 卷号: 29, 期号: 5 作者:  Si, Shuyao;  Wu, Facai;  Liu, Ming;  Long, Shibing;  Lv, Hangbing 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/05 Negative differential resistance effect induced by metal ion implantation in SiO2 film for multilevel RRAM application 期刊论文 NANOTECHNOLOGY, 2018, 卷号: 29, 期号: 5 作者:  Wu, Facai;  Si, Shuyao;  Shi, Tuo;  Zhao, Xiaolong;  Liu, Qi 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/12/05 ion implantation  negative differential resistance  nanoparticles  RRAM   STUDIES ON KINETICS OF INCORPORATION OF METAL-ION INTO PORPHYRIN .4. KINETIC SALT EFFECT IN FORMATION REACTION OF CU(II)T-BETA-N-EAESPYP4+ 期刊论文 化学学报, 1993, 卷号: 51, 期号: 3 作者:  CHEN, SY;  REN, JG;  QIN, ZB 收藏  |  浏览/下载：0/0  |  提交时间：2019/12/05