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| 一种半导体器件的制造方法 专利 专利号: US10115804, 申请日期: 2018-10-30, 公开日期: 2015-11-12 作者: 王桂磊; 李俊峰; 刘金彪; 赵超 收藏  |  浏览/下载:22/0  |  提交时间:2019/03/27 |
| 亚波长极紫外金属透射光栅及其制作方法 专利 专利号: US9442230, 申请日期: 2016-09-13, 公开日期: 2014-06-26 作者: 李海亮; 谢常青; 刘明; 李冬梅; 史丽娜 收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2017/06/09 |
| Effects of MgO Thickness and Roughness on Perpendicular Magnetic Anisotropy in MgO/CoFeB/Ta Multilayers 期刊论文 CHIN. PHYS. LETT., 2016 作者: Zhu ZY(朱正勇); Zhong HC(钟汇才) 收藏  |  浏览/下载:10/0  |  提交时间:2017/05/09 |
| Efficient source mask optimization method for reduction of computational lithography cycles and enhancement of process-window predictability 期刊论文 J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2015 作者: Wei YY(韦亚一); Guo MR(郭沫然); Song ZY(宋之洋) 收藏  |  浏览/下载:15/0  |  提交时间:2016/05/31 |
| 固态孔阵及其制作方法 专利 专利号: US9136160, 申请日期: 2015-09-15, 公开日期: 2014-01-03 作者: 赵超; 董立军 收藏  |  浏览/下载:3/0  |  提交时间:2016/09/19 |
| Enlage the process window of patterns in 22nm node by using mask topography aware OPC and SMO 期刊论文 CSTIC, 2015 作者: Song ZY(宋之洋); Wei YY(韦亚一); Su YJ(粟雅娟); Guo MR(郭沫然); Dong LS(董立松) 收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2016/05/31 |
| Optimization of silicon nanocrystals growth process by low pressure chemical vapor deposition for non-volatile memory application 期刊论文 Thin Solid Films, 2011 作者: Liu M(刘明) 收藏  |  浏览/下载:6/0  |  提交时间:2012/11/15 |
| Spiral photon sieves apodized by digital prolate spheroidal window for the generation of hard-x-ray vortex 外文期刊 2010 作者: Shi, LN; Zhu, XL; Xie, CQ; Liu, M 收藏  |  浏览/下载:5/0  |  提交时间:2010/11/26
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| Focusing properties of hard x-ray photon sieves: three-parameter apodization window and waveguide effect 外文期刊 2009 作者: Zhu, XL; Jia, J; Xie, CQ 收藏  |  浏览/下载:7/0  |  提交时间:2010/11/26
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