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| 平坦化处理方法 专利
专利号: US10068803, 申请日期: 2018-09-04, 公开日期: 2015-09-17
作者: 朱慧珑 ; 罗军; 李春龙; 邓坚; 赵超
  收藏 | 浏览/下载：8/0 | 提交时间：2019/03/27 |
| 亚波长极紫外金属透射光栅及其制作方法 专利
专利号: US9442230, 申请日期: 2016-09-13, 公开日期: 2014-06-26
作者: 李海亮; 谢常青; 刘明; 李冬梅; 史丽娜
收藏 | 浏览/下载：9/0 | 提交时间：2017/06/09 |
| 平坦化处理方法 专利
专利号: US9406549, 申请日期: 2016-08-02, 公开日期: 2014-06-05
作者: 朱慧珑; 罗军; 李春龙; 邓坚; 赵超
收藏 | 浏览/下载：7/0 | 提交时间：2017/06/12 |
| Research of periodic amorphous carbon composite films for MEMS IR source fabricated by magnetron sputtering 会议论文
作者: Ming AJ(明安杰); Sun XL(孙西龙); Wang WB(王玮冰); Liu WB(刘卫兵); Chen DP(陈大鹏)
收藏 | 浏览/下载：12/0 | 提交时间：2017/05/18 |
| Characteristics of HfLaON/SiO2 Gate Stack prepared using Reactive Sputtering 期刊论文
ECS Transactions, 2013
作者: Xu QX(徐秋霞); Xu GB(许高博); Zhou HJ(周华杰)
收藏 | 浏览/下载：13/0 | 提交时间：2014/10/30 |
| High-quality HfSiON gate dielectric and its application in a gate-last NMOSFET fabrication 会议论文
作者: Xu GB(许高博); Xu QX(徐秋霞); Yin HX(殷华湘)
收藏 | 浏览/下载：13/0 | 提交时间：2014/10/30 |
| Effects of Si, Ge and Ar ion-implantation on EL from Au/Si-rich SiO2/p-Si structure 外文期刊
2001
作者: Chen, Y; Ran, GZ; Sun, YK; Wang, YB; Fu, JS
收藏 | 浏览/下载：9/0 | 提交时间：2010/11/26
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