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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Systematic Study of the SiOx Film with Different Stoichiometry by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition and Its Application in SiOx/SiO₂ Super-Lattice 期刊论文 Nanomaterials (Basel, Switzerland), 2019, 卷号: 9, 页码: 1-13 作者:  Ma Hong-Ping[1];  Yang Jia-He[2];  Yang Jian-Guo[3];  Zhu Li-Yuan[4];  Huang Wei[5] 收藏  |  浏览/下载：37/0  |  提交时间：2019/04/22 SiO2  SiOx  plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD)  stoichiometry  superlattice