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科研机构
西安交通大学 [6]
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期刊论文 [4]
会议论文 [2]
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2016 [1]
2015 [1]
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Characterization of Transient Threshold Voltage Shifts in Enhancement-and Depletion-mode AlGaN/GaN Metal-Insulator-Semiconductor (MIS)-HEMTs
会议论文
作者:
Cui, Miao
;
Cai, Yutao
;
Lam, Sang
;
Liu, Wen
;
Zhao, Chun
收藏
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2019/11/26
AlGaN/GaN MIS-HEMTs
Frequency dependence
Frequency independent
High-voltage switching
Metal-insulator-semiconductors
MIS-HEMT
Threshold voltage shifts
Voltage hysteresis
Effects of Biased Irradiation on Charge Trapping in HfO2 Dielectric Thin Films
会议论文
作者:
Mu, Yifei
;
Zhao, Ce Zhou
;
Lu, Qifeng
;
Zhao, Chun
;
Qi, Yanfei
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2019/11/26
HfO2
Thin Films
Charge Trapping
Total Dose Effects and Bias Instabilities of (NH4)(2)S Passivated Ge MOS Capacitors With HfxZr1-xOy Thin Films
期刊论文
IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE, 2017, 卷号: 64, 页码: 2913-2921
作者:
Mu, Yifei
;
Fang, Yuxiao
;
Zhao, Ce Zhou
;
Zhao, Chun
;
Lu, Qifeng
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/11/26
germanium
HfxZr1-xOy
interface traps
total dose effect
oxide trapped charges
Total Ionizing Dose Response of Hafnium-Oxide Based MOS Devices to Low-Dose-Rate Gamma Ray Radiation Observed by Pulse CV and On-Site Measurements
期刊论文
IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE, 2017, 卷号: 64, 页码: 673-682
作者:
Mu, Yifei
;
Zhao, Ce Zhou
;
Lu, Qifeng
;
Zhao, Chun
;
Qi, Yanfei
收藏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2019/11/26
gamma irradiation
ALD
hafnium oxide
low-dose-rate
oxide trapped charges
pulse CV
Real-time and on-site gamma-ray radiation response testing system for semiconductor devices and its applications
期刊论文
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2016, 卷号: 372, 期号: [db:dc_citation_issue], 页码: 14-28
作者:
Mu, Yifei
;
Zhao, Ce Zhou
;
Qi, Yanfei
;
Lam, Sang
;
Zhao, Chun
收藏
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2019/12/02
Real-time I-V/C-V test
High-kappa dielectrics
Total-dose induced defects
HfO2
On-site radiation response
Electrical Properties and Interfacial Studies of HfxTi1-xO2 High Permittivity Gate Insulators Deposited on Germanium Substrates
期刊论文
MATERIALS, 2015, 卷号: 8, 期号: [db:dc_citation_issue], 页码: 8169-8182
作者:
Lu, Qifeng
;
Mu, Yifei
;
Roberts, Joseph W.
;
Althobaiti, Mohammed
;
Dhanak, Vinod R.
收藏
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2019/12/02
XPS
Ge substrate
AFM
titanium-doped hafnium oxide
XRD
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