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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 A High-Voltage (> 600 V) N-Island LDMOS With Step-Doped Drift Region in Partial SOI Technology 期刊论文 IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2016 Hu, Yue; Wang, Hao; Du, Caixia; Ma, Miaomiao; Chan, Mansun; He, Jin; Wang, Gaofeng 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2017/12/03 Breakdown voltage (BV)  lateral double-diffused MOS (LDMOS)  N-island (NIS)  partial silicon-on-insulator (PSOI)  step-doped drift (SDD) region  BURIED P LAYER  POWER LDMOS  IMPROVEMENT  DEVICES  TRENCH  FILM  TRANSISTOR   A High-Voltage (> 600 V) N-Island LDMOS With Step-Doped Drift Region in Partial SOI Technology 期刊论文 IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2016, 卷号: 63, 期号: 5 作者:  Hu, Yue;  Wang, Hao;  Du, Caixia;  Ma, Miaomiao;  Chan, Mansun 收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2019/12/05 Breakdown voltage (BV)  lateral double-diffused MOS (LDMOS)  N-island (NIS)  partial silicon-on-insulator (PSOI)  step-doped drift (SDD) region