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Nuclear microbeam analysis of ICF target material made by GDP technique
期刊论文
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2015, 卷号: 348, 页码: 178-182
作者:
Rong, C.
;
He, X.
;
Meng, J.
;
Gao, D.
;
Zhang, Y.
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2018/07/05
Icf Target
Quantitative Analysis
Nuclear Microprobe
Geometrical Calibration
Nuclear microbeam analysis of ICF target material made by GDP technique
期刊论文
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2015, 卷号: 348, 页码: 178—182
作者:
Rong, C
;
He, X
;
Meng, J
;
Gao, D
;
Zhang, Y
收藏
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2015/12/09
PIXE
MICROPROBE
SPECTRA
RBS
Thermal Annealing Behavior of Helium in Ti Films Deposited by Magnetron Sputtering
期刊论文
CHINESE PHYSICS LETTERS, 2012, 卷号: 29
作者:
Zhang Lei
;
He Zhi-Jiang
;
Liu Chao-Zhuo
;
Wang Xu-Fei
;
Shi Li-Qun
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2018/07/05
Effect of nitrogen addition on hydrogen incorporation in diamond nanorod thin films
期刊论文
CURRENT APPLIED PHYSICS, 2012, 卷号: 12, 期号: 3
Sobia, AR
;
Adnan, S
;
Mukhtiar, A
;
Khurram, AA
;
Turab, AA
;
Awais, A
;
Naveed, A
;
Faisal, QJ
;
Javaid, H
;
Yu, GJ(俞国军)
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浏览/下载:6/0
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提交时间:2013/12/05
The Mean Projected Range and Range Straggling of Er Ions Implanted in 6h Silicon Carbide
期刊论文
ADVANCED MATERIALS RESEARCH II, PTS 1 AND 2, 2012, 卷号: 463-464, 页码: 798-801
作者:
Qin, Xi-Feng
;
Wang, Hui-Ning
;
Ji, Zi-Wu
;
Wang, Feng-Xiang
;
Fu, Gang
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/23
Er ion implantation
6H-SiC
projected range
range straggling
Rutherford backscattering technique
The mean projected range and range straggling of Yb ions implanted in silicon crystal
期刊论文
NEW MATERIALS AND PROCESSES, PTS 1-3, 2012, 卷号: 476-478, 页码: 1249-1253
作者:
Qin, Xi-Feng
;
Wang, Hui-Ning
;
Ji, Zi-Wu
;
Wang, Feng-Xiang
;
Fu, Gang
收藏
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/12/23
Yb ion implantation
projected range
range straggling
Rutherford
backscattering technique
Investigation of the inhibiting outdiffusion of erbium atoms to a silicon-on-insulator surface after annealing at high temperature
期刊论文
CHINESE PHYSICS B, 2012, 卷号: 21, 期号: 6
作者:
Qin Xi-Feng
;
Li Hong-Zhen
;
Li Shuang
;
Ji Zi-Wu
;
Wang Hui-Ning
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/12/23
Er ion implantation
silicon-on-insulator
annealing behavior
Rutherford backscattering technique
Formation of a highly Erbium doped silicon-on-insulator layer by introducing SiOx on or into a silicon surface
期刊论文
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2012, 卷号: 278, 页码: 1-3
作者:
Qin, Xi-Feng
;
Ji, Zi-Wu
;
Chen, Ming
;
Liu, Xiu-Hong
;
Wang, Xue-Lin
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2019/12/23
Silicon-on-insulator
Erbium ion implantation
Heterostructure
Annealing behavior
Rutherford backscattering technique
Investigation of the inhibiting outdiffusion of erbium atoms to a silicon-on-insulator surface after annealing at high temperature
期刊论文
Chinese Physics B, 2012, 期号: 06, 页码: 389-392
作者:
Qin XF(秦希峰)
;
Li HZ(李洪珍)
;
Li S(李双)
;
Ji ZW(冀子武)
;
Wang HN(王绘凝)
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/12/23
Er ion implantation,silicon-on-insulator,annealing behavior,Rutherford backscattering technique
Formation of a highly Erbium doped silicon-on-insulator layer by introducing SiO _x on or into a silicon surface
期刊论文
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms, 2012, 页码: 1-3
作者:
Qin, X.-F.
;
Ji, Z.-W.
;
Chen, M.
;
Liu, X.-H.
;
Wang, X.-L.
收藏
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2019/12/23
Annealing behavior
Erbium ion implantation
Heterostructure
Rutherford backscattering technique
Silicon-on-insulator
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