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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Improvement and application of pad conditioning accuracy in chemical mechanical polishing 期刊论文 Optical Engineering, 2018, 卷号: 57 作者:  Ban, Xinxing;  Zhao, Huiying;  Zhu, Xueliang;  Zhao, Shijie;  Xie, Ruiqing 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2019/11/26 Application process  Chemical mechanical polishing(CMP)  Density distributions  Diamond conditioners  Kinematic Analysis  Optical processing  Planarity  Process parameters   EFFECTS OF ANODIC-OXIDATION ON THE SURFACE-STRUCTURE OF HIGHLY ORIENTED PYROLYTIC-GRAPHITE REVEALED BY IN-SITU ELECTROCHEMICAL SCANNING-TUNNELING-MICROSCOPY IN H2SO4 SOLUTION 期刊论文 electrochimica acta, 1995, 卷号: 40, 期号: 16, 页码: 2627-2633 ZHANG BL; WANG EK 收藏  |  浏览/下载：40/0  |  提交时间：2010/12/30 TUNNELING-MICROSCOPY  ELECTRON-TRANSFER  IMAGES  DEFECTS  CARBON  MICROSTRUCTURE  INTERCALATION  CORRUGATIONS  BOUNDARIES  ACTIVATION