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| 离子源偏压对PIA-EB-Hf法制备的HfO_2激光薄膜性能的影响 期刊论文
无机材料学报, 2017, 卷号: 32, 页码: 69-74
作者: Fu Chao-Li[1]; Yang Yong[2]; Ma Yun-Feng[3]; Wei Yu-Quan[4]; Jiao Zheng[5]
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| 具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: 201520840239.X, 申请日期: 2016-04-13, 公开日期: 2016-04-13
作者: 张斌 ; 张俊彦; 高凯雄; 强力; 王健
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| 离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响 期刊论文
材料热处理学报, 2015, 卷号: 36, 期号: 6, 页码: 164-168
作者: 魏俊俊; 朱小研; 陈良贤; 刘金龙; 黑立富
收藏 | 浏览/下载：46/0 | 提交时间：2015/12/25
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| 高密度RF等离子体刻蚀工艺直流自我偏压的研究 期刊论文
压电与声光, 2014
李悦
收藏 | 浏览/下载：2/0 | 提交时间：2015/11/11
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| 纳米尺度多晶硅微结构刻蚀研究 期刊论文
微纳电子技术, 2012
李悦; 田大宇; 李静; 刘鹏; 戴晓涛
收藏 | 浏览/下载：4/0 | 提交时间：2015/11/11
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| 产生中性粒子束的装置及方法 专利
申请日期: 2011-09-26, 公开日期: 2012-11-20
作者: 夏洋; 席峰; 李勇滔; 李楠; 张庆钊
收藏 | 浏览/下载：6/0 | 提交时间：2012/11/20 |
| 离子源辅助中频磁控溅射制备AlN薄膜 学位论文
2009
作者: 任克飞
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| ECR等离子体的轫致辐射谱和极紫外光研究 学位论文
2008
赵环昱
收藏 | 浏览/下载：13/0 | 提交时间：2010/01/24
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