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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：2013     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 He and H sequential implantation induced surface blistering and the exfoliation of Si covered with an oxide layer 期刊论文 中国物理C, 2013, 卷号: 第37卷, 页码: P70-75 作者:  Wang Zhuo1;  Gao YuJie1;  Li MengKai1;  Zhu Fei1;  Zhang DaCheng1 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2019/11/26 SiO_2/Si wafer/He and H ion implantation/localized exfoliation/crack