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科研机构
半导体研究所 [8]
内容类型
期刊论文 [8]
发表日期
2005 [4]
2001 [4]
学科主题
半导体材料 [3]
半导体物理 [1]
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Nucleation of diamond by pure carbon ion bombardment - a transmission electron microscopy study
期刊论文
Applied physics letters, 2005, 卷号: 87, 期号: 6, 页码: 3
作者:
Yao, Y
;
Liao, MY
;
Wang, ZG
;
Lifshitz, Y
;
Lee, ST
收藏
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2019/05/12
Diamond nucleation by energetic pure carbon bombardment
期刊论文
Physical review b, 2005, 卷号: 72, 期号: 3, 页码: 5
作者:
Yao, Y
;
Liao, MY
;
Kohler, T
;
Frauenheim, T
;
Zhang, RQ
收藏
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浏览/下载:20/0
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提交时间:2019/05/12
Nucleation of diamond by pure carbon ion bombardment - a transmission electron microscopy study
期刊论文
applied physics letters, 2005, 卷号: 87, 期号: 6, 页码: art.no.063103
Yao, Y
;
Liao, MY
;
Wang, ZG
;
Lifshitz, Y
;
Lee, ST
收藏
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浏览/下载:49/20
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提交时间:2010/03/17
BEAM DEPOSITION
Diamond nucleation by energetic pure carbon bombardment
期刊论文
physical review b, 2005, 卷号: 72, 期号: 3, 页码: art.no.035402
Yao Y
;
Liao MY
;
Kohler T
;
Frauenheim T
;
Zhang RQ
;
Wang ZG
;
Lifshitz Y
;
Lee ST
收藏
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浏览/下载:44/15
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提交时间:2010/03/17
ION-BEAM DEPOSITION
Carbonization process of si(100) by ion-beam bombardment
期刊论文
Journal of crystal growth, 2001, 卷号: 233, 期号: 3, 页码: 446-450
作者:
Liao, MY
;
Chai, CL
;
Yao, ZY
;
Yang, SY
;
Liu, ZK
收藏
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2019/05/12
Diffusion
Growth models
Ion bombardment
Reflection high energy electron diffraction
Physical vapor phase deposition
Semiconducting silicon compounds
Influence of ion energy and deposition temperature on the surface morphology of carbon films deposited by ion beams
期刊论文
Acta physica sinica, 2001, 卷号: 50, 期号: 7, 页码: 1324-1328
作者:
Liao, MY
;
Qin, FG
;
Chai, CL
;
Liu, ZK
;
Yang, SY
收藏
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2019/05/12
Amorphous carbon
Surface morphology
Mass-selected low energy ion beam deposition
Carbonization process of Si(100) by ion-beam bombardment
期刊论文
journal of crystal growth, 2001, 卷号: 233, 期号: 3, 页码: 446-450
Liao MY
;
Chai CL
;
Yao ZY
;
Yang SY
;
Liu ZK
;
Wang ZG
收藏
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浏览/下载:83/8
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提交时间:2010/08/12
diffusion
growth models
ion bombardment
reflection high energy electron diffraction
physical vapor phase deposition
semiconducting silicon compounds
CUBIC GAN
GROWTH
DEPOSITION
EPITAXY
SILICON
DIAMOND
Influence of ion energy and deposition temperature on the surface morphology of carbon films deposited by ion beams
期刊论文
acta physica sinica, 2001, 卷号: 50, 期号: 7, 页码: 1324-1328
Liao MY
;
Qin FG
;
Chai CL
;
Liu ZK
;
Yang SY
;
Yao ZY
;
Wang ZG
收藏
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浏览/下载:127/13
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提交时间:2010/08/12
amorphous carbon
surface morphology
mass-selected low energy ion beam deposition
TETRAHEDRAL AMORPHOUS-CARBON
BIAS-ENHANCED NUCLEATION
ATOMIC-FORCE MICROSCOPY
DIAMOND-LIKE CARBON
SILICON
GROWTH
MODEL
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