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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 专题：上海微系统与信息技术研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 可控氧化硅去除速率的化学机械抛光液 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN102268224A, 申请日期: 2011-12-07, 公开日期: 2011-12-07 王良咏; 宋志棠; 刘波; 刘卫丽; 封松林 收藏  |  浏览/下载：23/0  |  提交时间：2012/01/06 一种相变材料抛光后清洗液 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN102268332A, 申请日期: 2011-12-07, 公开日期: 2011-12-07 王良咏; 宋志棠; 刘波; 刘卫丽; 钟旻; 封松林 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2012/01/06 硫系化合物相变材料抛光后清洗液 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN101935596A, 申请日期: 2011-01-05, 公开日期: 2011-01-05 王良咏; 宋志棠; 刘卫丽; 刘波; 钟旻; 封松林 收藏  |  浏览/下载：42/0  |  提交时间：2012/01/06 一种新型复合磨料对铜的化学机械抛光研究 期刊论文 功能材料与器件学报, 2011, 期号: 05 张磊; 汪海波; 张泽芳; 王良咏; 刘卫丽; 宋志棠 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2012/04/13 PS/SiO2  复合磨料  铜  化学机械抛光