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浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 限定条件 发表日期：2017    专题：微电子研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Characteristic study of image-based alignment for increasing accuracy in lithography application 期刊论文 Journal of Vacuum Science & Technology B, 2017 作者:  Zhang LB(张利斌);  Dong LS(董立松);  Su XJ(苏晓菁);  Wei YY(韦亚一) 收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2018/07/09 Optimization of the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type 期刊论文 J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2017 作者:  Zhang LB(张利斌);  Wei YY(韦亚一);  He JF(何建芳);  Su XJ(苏晓菁);  Dong LS(董立松) 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2018/06/08 An off-line roughness evaluation software and its application in quantitative calculation of wiggling based on low frequency power spectrum density method 会议论文 作者:  Zhao LJ(赵利俊);  Zhang LB(张利斌);  Dong LS(董立松);  Su XJ(苏晓菁);  Liu YS(刘艳松) 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2018/07/26 New alignment mark designs in single patterning and self-aligned double patterning 期刊论文 Microelectronic Engineering, 2017 作者:  Zhang LB(张利斌);  Dong LS(董立松);  Su XJ(苏晓菁);  Wei YY(韦亚一);  Ye TC(叶甜春) 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2018/07/09 New alignment mark design structures for higher diffraction order wafer quality enhancement 会议论文 作者:  Wei YY(韦亚一);  Zhang LB(张利斌);  Dong LS(董立松);  Su XJ(苏晓菁);  Ye TC(叶甜春) 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2018/07/26