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科研机构
上海微系统与信息技术... [3]
内容类型
期刊论文 [3]
发表日期
2005 [2]
1991 [1]
学科主题
Engineerin... [2]
Instrument... [1]
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专题:上海微系统与信息技术研究所
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Interfacial characteristics of fully depleted SiGe-on-insulator (SGOI) substrate fabricated by modified Ge condensation
期刊论文
SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY, 2005, 卷号: 20, 期号: 8, 页码: L31-L35
Di, ZF
;
Zhang, M
;
Liu, WL
;
Luo, SH
;
Song, ZT
;
Lin, CL
;
Lin, Q
;
Chu, PK
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提交时间:2012/03/24
ELECTRON-MOBILITY ENHANCEMENT
STRAINED-SI
DIFFUSION
OXIDATION
GERMANIUM
SILICON
ALLOYS
Effect of ion-induced defects and oxygen concentration in annealing atmosphere on formation of buried oxide layer in SIMOX materials
期刊论文
SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY, 2005, 卷号: 20, 期号: 3, 页码: 305-309
Chen, J
;
Wang, X
;
Jin, B
;
Zhang, E
;
Sun, J
;
Wang, X
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提交时间:2012/03/24
IMPLANTED SILICON
ISOTOPIC EXCHANGE
ON-INSULATOR
SI
TEMPERATURE
DIFFUSION
THE INFLUENCE OF HIGH-DOSE AND ELEVATED-TEMPERATURE IMPLANTATION ON PN-JUNCTION LEAKAGE CURRENT DURING RAPID THERMAL ANNEALING
期刊论文
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1991, 卷号: 59, 页码: 1098-1102
ZHANG, TH
;
ZHOU, SH
;
WU, YG
;
LUO, Y
;
ZHOU, ZY
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提交时间:2012/03/25
DIFFUSION
SILICON
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