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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 专题：金属研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Room-temperature weak ferromagnetism of amorphous HfAlOx thin films deposited by pulsed laser deposition 期刊论文 Applied Physics Letters, 2006, 卷号: 89, 期号: 24 X. Y. Qiu; Q. M. Liu; F. Gao; L. Y. Lu; J. M. Liu 收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2012/04/14 thermal-stability  hfo2  magnetism  semiconductors  oxides  cab6   Phase separation enhanced interfacial reactions in complex high-k dielectric films 期刊论文 Integrated Ferroelectrics, 2006, 卷号: 86, 页码: 13-19 X. Y. Qiu; F. Gao; H. W. Liu; J. S. Zhu; J. M. Liu 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2012/04/14 phase separation  interfacial reaction  high-k dielectric film  pulsed-laser deposition  silicate thin-films  thermal-stability  gate  property  hfo2   Phase separation and interfacial reaction of high-k HfAlOx films prepared by pulsed-laser deposition in oxygen-deficient ambient 期刊论文 Applied Physics Letters, 2006, 卷号: 88, 期号: 7 X. Y. Qiu; H. W. Liu; F. Fang; M. J. Ha; J. M. Liu 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2012/04/14 silicate thin-films  thermal-stability  gate dielectrics  si(100)  zro2  capacitors  diffusion  kinetics  oxides  hfo2