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科研机构
北京大学 [11]
内容类型
其他 [11]
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2015 [1]
2013 [1]
2010 [1]
2008 [1]
2007 [1]
2005 [1]
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New Framework for the random charging/discharging of oxide traps in HfO2 gate dielectric: Ab-initio simulation and experimental evidence
其他
2015-01-01
Ji, Jingwei
;
Qiu, Yingxin
;
Guo, Shaofeng
;
Wang, Runsheng
;
Ren, Pengpeng
;
Hao, Peng
;
Huang, Ru
收藏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2017/12/03
High performance aluminum-doped ZnO thin film transistors with high-K gate dielectrics fabricated at low temperature
其他
2013-01-01
Han, Dedong
;
Cai, Jian
;
Wang, Wei
;
Wang, Liangliang
;
Wang, Yi
;
Liu, Lifeng
;
Zhang, Shengdong
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2017/12/03
Bias temperature instability of binary oxide based reram
其他
2010-01-01
Fang, Z.
;
Yu, H.Y.
;
Liu, W.J.
;
Pey, K.L.
;
Li, X.
;
Wu, L.
;
Wang, Z.R.
;
Lo, Patrick G.Q.
;
Gao, B.
;
Kang, J.F.
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/11/13
Characteristics of sub-100nm Ferroelectric Field Effect Transistor with High-k Buffer Layer
其他
2008-01-01
Jin, Rui
;
Song, Yuncheng
;
Ji, Min
;
Xu, Honghua
;
Kang, Jinfeng
;
Han, Ruqi
;
Liu, Xiaoyan
收藏
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2015/11/10
GATE DIELECTRICS
DEVICE
Coulomb Scattering induced mobility degradation in Ultrathin-body SOI MOSFETs with high-k gate stack
其他
2007-01-01
Yang, J.F.
;
Xia, Z.L.
;
Du, G.
;
Liu, X.Y.
;
Han, R.Q.
;
Kang, J.F.
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/11/10
A comparative study of program/erase characteristic of low-voltage low-power NROM using high-K materials as tunnel dielectric
其他
2005-01-01
Cai, Y. M.
;
Huang, R.
;
Shan, X. N.
;
Long, Z. F.
;
Li, Y.
;
Wang, Y. Y.
收藏
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2015/11/13
GATE DIELECTRICS
MEMORY
Effect of post-annealing on the physical and electrical properties of LaAlO3 gate dielectrics
其他
2004-01-01
Lu, XB
;
Zhang, X
;
Huang, R
;
Lu, HB
;
Chen, ZH
;
Zhou, HW
;
Wang, XP
;
Nguyen, BY
;
Wang, CZ
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/11/13
THERMAL-STABILITY
AMORPHOUS LAALO3
FILMS
Selected topics on HfO2 gate dielectrics for future ULSI CMOS devices
其他
2004-01-01
Li, M.F.
;
Yu, H.Y.
;
Hou, Y.T.
;
Kang, J.F.
;
Wang, X.P.
;
Shen, C.
;
Ren, C.
;
Yeo, Y.C.
;
Zhu, C.X.
;
Chan, D.S.H.
;
Chin, Albert
;
Kwong, D.L.
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/11/13
Reliability characteristics of high-K gate dielectrics HfO2 in metal-oxide semiconductor capacitors
其他
2003-01-01
Han, DD
;
Kang, JF
;
Lin, CH
;
Han, RQ
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/11/10
reliability
high-K
HfO2
gate dielectrics
INDUCED LEAKAGE CURRENT
HARD BREAKDOWN
SILICON
SIMULATION
MOSFETS
SOFT
A novel idea: Using DTMOS to suppress FIBL effect in MOSFET with high-k gate dielectrics
其他
2003-01-01
Wang, Wenping
;
Huang, Ru
;
Yang, Shengqi
;
Zhang, Guoyan
;
Zhang, Xing
;
Wang, Yangyuan
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2017/12/03
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