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科研机构
大连理工大学 [4]
内容类型
会议论文 [4]
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2018 [1]
2017 [1]
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ALE of SiO2 by alternating CF4 plasma with energetic Ar+ plasma beams
会议论文
7th international conference on microelectronics and plasma technology
作者:
Dong W(董婉)
;
Dai ZL(戴忠玲)
;
Song YH(宋远红)
;
Wang YN(王友年)
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2019/12/02
Accuracy control of SiO2 etching in inductively coupled CF4/Ar plasmas
会议论文
1st Asia-Pacific Conference on Plasma Physics, 18-23, 09.2017
作者:
Dai ZL(戴忠玲)
;
Wang YN(王友年)
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浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2019/12/02
Change of hydrophobicity on silicone rubber modified by CF4 capacitively coupled plasma and inductively coupled plasma
会议论文
5th International Conference on Surface Engineering, Dalian Univ Technol, Dalian, PEOPLES R CHINA, 2008-01-01
作者:
Gao, S. H.
;
Liu, Y.
;
Lei, M. K.
;
Wen, L. S.
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/27
silicone rubber
hydrophobicity
radio frequency plasma
contact angle
Change of hydrophobicity on silicone rubber modified by CF4 capacitively coupled plasma and inductively coupled plasma
会议论文
Key Engineering Materials, 2008-01-01
作者:
Gao, S.H.
;
Liu, Y.
;
Lei, M.K.
;
Wen, L.S.
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2019/12/27
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