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科研机构
西安光学精密机械研... [10]
内容类型
专利 [10]
发表日期
2019 [1]
2018 [1]
2012 [2]
2002 [2]
2001 [2]
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Group-III nitride devices and systems on IBAD-textured substrates
专利
专利号: US10243105, 申请日期: 2019-03-26, 公开日期: 2019-03-26
作者:
MATIAS, VLADIMIR
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浏览/下载:42/0
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提交时间:2019/12/24
Bond and release layer transfer process
专利
专利号: US10164144, 申请日期: 2018-12-25, 公开日期: 2018-12-25
作者:
HENLEY, FRANCOIS J.
;
KANG, SIEN
;
ZHONG, MINGYU
;
LI, MINGHANG
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浏览/下载:94/0
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提交时间:2019/12/24
Integrated total internal reflectors for high-gain laser diodes with high quality cleaved facets on nonpolar/semipolar GaN substrates
专利
专利号: US8259769, 申请日期: 2012-09-04, 公开日期: 2012-09-04
作者:
RARING, JAMES W.
;
FEEZELL, DANIEL F.
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2019/12/26
Gallium nitride-based semiconductor optical device, method of fabricating gallium nitride-based semiconductor optical device, and epitaxial wafer
专利
专利号: US8228963, 申请日期: 2012-07-24, 公开日期: 2012-07-24
作者:
ENYA, YOHEI
;
YOSHIZUMI, YUSUKE
;
OSADA, HIDEKI
;
ISHIBASHI, KEIJI
;
AKITA, KATSUSHI
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2019/12/26
Article comprising an oxide layer on a GaAs or GaN-based semiconductor body
专利
专利号: US6469357, 申请日期: 2002-10-22, 公开日期: 2002-10-22
作者:
HONG, MINGHWEI
;
KORTAN, AHMET REFIK
;
KWO, JUEINAI RAYNIEN
;
MANNAERTS, JOSEPH PETRUS
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2019/12/24
Semiconductor device and semiconductor light emitting device
专利
专利号: US6462354, 申请日期: 2002-10-08, 公开日期: 2002-10-08
作者:
OKUYAMA, HIROYUKI
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2019/12/24
Semiconductor laser element
专利
专利号: US20010028668A1, 申请日期: 2001-10-11, 公开日期: 2001-10-11
作者:
FUKUNAGA, TOSHIAKI
;
MATSUMOTO, KENJI
;
WADA, MITSUGU
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2020/01/18
Horizontal reactor for compound semiconductor growth
专利
专利号: US6214116, 申请日期: 2001-04-10, 公开日期: 2001-04-10
作者:
SHIN, HYUN KEEL
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2019/12/26
Process for vapor phase epitaxy of compound semiconductor
专利
专利号: EP0801156A2, 公开日期: 1997-10-15
作者:
OKAHISA, TAKUJI, C/OSUMITOMO ELECTRIC IND. LTD.
;
SHIMAZU, MITSURU, SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES LTD
;
MATSUSHIMA, MASATO, SUMITOMO ELECTRIC IND. LTD.
;
MIURA, YOSHIKI, SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES LTD.
;
MOTOKI, KENSAKU, SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES LTD.
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2019/12/26
Growth of planar reduced dislocation density m-plane gallium nitride by hydride vapor phase epitaxy
专利
专利号: WO2005122267A3, 公开日期: 2005-12-22
作者:
HASKELL, BENJAMIN, A.
;
MCLAURIN, MELVIN, B.
;
DENBAARS, STEVEN, P.
;
SPECK, JAMES, S.
;
NAKAMURA, SHUJI
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2019/12/26
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