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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：2022     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Boosting nonradical process in BiOI/BiOCl heterostructure by interface oxygen vacancies 期刊论文 Chemical Engineering Journal, 2022, 卷号: 435 作者:  Qin, Hailan;  Sun, Jingyu;  Xia, Dongsheng;  Xu, Haiming;  Yu, Qilin 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2022/04/21 Bismuth compounds  Chlorine compounds  Defect engineering  Heterojunctions  Water pollution  BiOI/BiOCl  Electrophilicities  Interface oxygen vacancy  Nonradical  Oxygen vacancy concentration  Photo-induced  Selective degradation  Synthesised  Transport resistance  Ultrasonic methods