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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 发表日期：2020     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 High-efficiency synthesis of large-area monolayer WS2 crystals on SiO2/Si substrate via NaCl-assisted atmospheric pressure chemical vapor deposition 期刊论文 APPLIED SURFACE SCIENCE, 2020, 卷号: 533, 页码: 8 作者:  Shi, Biao;  Zhou, Daming;  Qiu, Risheng;  Bahri, Mohamed;  Kong, Xiangdong 收藏  |  浏览/下载：52/0  |  提交时间：2021/02/24 Monolayer  Dual-tube CVD  Halide salts  Uniformity  Raman mapping   Simulation of Discharge Characteristics for the Plasma Etching of Large Area SiO2 Substrates 期刊论文 JOURNAL OF RUSSIAN LASER RESEARCH, 2020, 卷号: 41, 期号: 3, 页码: 258-267 作者:  Zhang JW(张景文) 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2020/11/30 reactive ion etching  capacitive coupled discharge  fluid simulation  discharge parameter  large area SiO2 substrates  plasma radial uniformity   Simulation of Discharge Characteristics for the Plasma Etching of Large Area SiO2 Substrates 期刊论文 JOURNAL OF RUSSIAN LASER RESEARCH, 2020, 卷号: 41, 期号: 3, 页码: 258-267 作者:  Zhang, Jingwen;  Fan, Bin;  Li, Zhiwei;  Gao, Guohan;  Li, Bincheng 收藏  |  浏览/下载：28/0  |  提交时间：2021/05/11 Reactive Ion Etching  Capacitive Coupled Discharge  Fluid Simulation  Discharge Parameter  Large Area Sio2 Substrates  Plasma Radial Uniformity