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内容类型
期刊论文 [4]
发表日期
2013 [4]
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发表日期:2013
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a-IGZO TFTs With Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposited SiOx Gate Dielectric
期刊论文
ieee电子器件汇刊, 2013
Xiao, Xiang
;
Deng, Wei
;
He, Xin
;
Zhang, Shengdong
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/11/11
Amorphous indium-gallium-zinc oxide (a-IGZO)
gate dielectric
inductively coupled plasma chemical vapor deposition (ICP-CVD)
low temperature
thin-film transistors (TFTs)
AMORPHOUS OXIDE SEMICONDUCTORS
MOBILITY
Effect of O-2 Flow Rate During Channel Layer Deposition on Negative Gate Bias Stress-Induced V-th Shift of a-IGZO TFTs
期刊论文
ieee电子器件汇刊, 2013
Xiao, Xiang
;
Deng, Wei
;
Chi, Shipeng
;
Shao, Yang
;
He, Xin
;
Wang, Longyan
;
Zhang, Shengdong
收藏
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浏览/下载:1/0
  |  
提交时间:2015/11/11
Amorphous indium-gallium-zinc-oxide (a-IGZO)
donor-like states
instability
O-2 flow rate
thin film transistors (TFTs)
FILM TRANSISTORS
MOBILITY
VOLTAGE
Comparison of the electrical and optical properties of direct current and radio frequency sputtered amorphous indium gallium zinc oxide films
期刊论文
固体薄膜, 2013
Yao, Jianke
;
Gong, Li
;
Xie, Lei
;
Zhang, Shengdong
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2015/11/13
Amorphous indium gallium zinc oxide
Direct current sputtering
Radio-frequency sputtering
Oxygen vacancy
Fermi level
Work function
The preparation and characteristics research of high mobility amorphous indium gallium zinc oxide thin-film transistors
期刊论文
ACTA PHYSICA SINICA, 2013, 卷号: 62, 期号: 7
作者:
Li Shuai-Shuai
;
Liang Chao-Xu
;
Wang Xue-Xia
;
Li Yan-Hui
;
Song Shu-Mei
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提交时间:2019/12/23
amorphous indium gallium zinc oxide
thin-film transistor
active layer
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