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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：2005     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Effects of negative bias and flux ratio on the properties of TiN thin films formed by filtered cathodic arc plasma technique 期刊论文 Acta Metallurgica Sinica (English Letters), 2005, 卷号: 18, 期号: 3, 页码: 369-374 作者:  Zhang, Y.J.;  Yan, P.X.;  Wu, Z.G.;  Zhang, W.W.;  Wang, J. 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2016/10/21 Argon/nitrogen flux ratio  Filtered cathodic arc plasma (FCAP)  Filtered cathodic vacuum arc (FCVA) technique  Negative bias  Preferred orientation  TiN