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科研机构
微电子研究所 [1]
内容类型
外文期刊 [1]
发表日期
2002 [1]
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内容类型:外文期刊
发表日期:2002
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Very low-pressure VLP-CVD growth of high quality gamma-Al2O3 films on silicon by multi-step process
外文期刊
2002
作者:
Tan, LW
;
Zan, YD
;
Wang, J
;
Wang, QY
;
Yu, YH
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提交时间:2010/11/26
Chemical-vapor-deposition
Epitaxial-growth
Al2o3 Films
Si
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