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科研机构
北京大学 [13]
内容类型
其他 [13]
发表日期
2013 [1]
2012 [1]
2010 [1]
2009 [1]
2008 [1]
2006 [2]
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Threshold voltage adjustment of pMOS-radiation field-effect transistor with thick thermal oxide
其他
2013-01-01
Wang, Shuaimin
;
Liu, Peng
;
Zhang, Jinwen
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2017/12/03
Study on Schottky Barrier Modulation of NiGe/Ge by Ion-implantation after Germanidation Technique
其他
2012-01-01
Li, Zhiqiang
;
An, Xia
;
Li, Min
;
Yun, Quanxin
;
Lin, Meng
;
Li, Ming
;
Zhang, Xing
;
Huang, Ru
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2015/11/13
GE
Design consideration of ion implantation in dopant segregation technique at NiSi/Si interface
其他
2010-01-01
Guo, Yue
;
An, Xia
;
Huang, Ru
;
Zhang, Xing
收藏
  |  
浏览/下载:5/0
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提交时间:2015/11/13
Simulation on Low Energy Ion Implantation into Ge and SiGe With Molecular Dynamics Method
其他
2009-01-01
Yu, Min
;
Li, Qiang
;
Yang, Jie
;
Qiao, Ying
;
Wang, Jinyan
;
Huang, Ru
;
Zhang, Xing
收藏
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浏览/下载:6/0
  |  
提交时间:2015/11/10
Implantation
simulation
Molecular Dynamics
Geminium
PHOSPHORUS IMPLANTATION
Investigation of silicon NC memory with improved threshold voltage window
其他
2008-01-01
Kuang, Yongbian
;
Li, Yan
;
Wu, Dake
;
Yu, Zhe
;
Tang, Ruyan
;
Huang, Ru
收藏
  |  
浏览/下载:2/0
  |  
提交时间:2015/11/10
Modifying residual stress and stress gradient in LPCVD Si3N4 film with ion implantation
其他
2006-01-01
Shi, Wendian
;
Zhang, Haixia
;
Zhang, Guobing
;
Li, Zhihong
收藏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2015/11/12
LPCVD Si3N4
residual stress
stress gradient
ion implantation
thermal annealing
INTERNAL-STRESS
THIN-FILMS
Precise simulation on ultra-low energy ion implantation by Molecular Dynamic approach with proper interaction model
其他
2006-01-01
Sui, Yi
;
Yuan, Li
;
Ye, Yun
;
Yu, Min
;
Huang, Ru
;
Zhang, Xing
;
Oka, Hideki
收藏
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2015/11/13
REACE: A new algorithm for low energy ion implantation simulation.
其他
2004-01-01
Shi, XK
;
Yu, M
;
Shi, H
;
Huang, R
;
Zhang, X
;
Wang, YY
;
Zhang, JY
收藏
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浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2015/11/13
MONTE-CARLO SIMULATION
STOPPING-POWER MODEL
MOLECULAR-DYNAMICS
SILICON
PROFILES
Defects in ion implantation and annealing studied by atomistic model
其他
2004-01-01
Yu, M
;
Wang, R
;
Ji, HH
;
Shi, XK
;
Zhan, K
;
Wang, YY
;
Zhang, JY
;
Oka, H
收藏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2015/11/13
simulation
implantation
annealing
shallow junction
SILICON
SIMULATION
Studying shallow junction technology by atomistic modeling
其他
2004-01-01
Yu, Min
;
Huang, Ru
;
Shi, Xiaokang
;
Ji, Huihui
;
Zhang, Xing
;
Wang, Yangyuan
;
Oka, Hideki
收藏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2015/11/13
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