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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 专题：上海光学精密机械研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Analytical approach to the impact of polarization aberration on lithographic imaging 期刊论文 optics letters, 2012, 卷号: 37, 期号: 11 Tu, YY (Tu, Yuanying); Wang, XZ (Wang, Xiangzhao); Li, SK (Li, Sikun); Cao, YT (Cao, Yuting) 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2013/09/17 Impact of mask absorber thickness on the focus shift effect in extreme ultraviolet lithography 期刊论文 journal of vacuum science & technology b, 2012, 卷号: 30, 期号: 3 Cao, YT (Cao, Yuting); Wang, XZ (Wang, Xiangzhao); Tu, YY (Tu, Yuanying); Bu, P (Bu, Peng) 收藏  |  浏览/下载：28/0  |  提交时间：2013/09/17 Analytical approach to the impact of polarization aberration on lithographic imaging 期刊论文 optics letters, 2012, 期号: 11 Tu, YY (Tu, Yuanying); Wang, XZ (Wang, Xiangzhao); Li, SK (Li, Sikun); Cao, YT (Cao, Yuting) 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2013/09/17