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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 专题：光电技术研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Analysis of fabricating arbitrary nanoscale patterns by LSPP direct writing lithography with two-dimensional metal hole-array 期刊论文 MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2011, 卷号: 88, 期号: 8, 页码: 1931-1934 作者:  Shi, Sha;  Zhang, Zhiyou;  Shi, Ruiying;  Niu, Xiaoyun;  Li, Shuhong 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2015/09/21 TMH  Local surface plasmon polariton  Parallel direct writing lithography