×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
安徽大学 [2]
内容类型
期刊论文 [2]
发表日期
2016 [1]
2015 [1]
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共2条,第1-2条
帮助
限定条件
内容类型:期刊论文
专题:安徽大学
第一署名单位
第一作者单位
通讯作者单位
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
Nitrogen-concentration modulated interfacial and electrical properties of sputtering-derived HfGdON gate dielectric
期刊论文
Journal of Applied Physics, 2016, 卷号: Vol.119 No.21, 页码: 214103
作者:
Shang,Guoliang
;
Zhang,Lide
;
Liu,Mao
;
Ma,Rui
;
He,Gang
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2019/04/22
THERMAL-STABILITY
FILMS
PHOTOEMISSION
GD
Effects of rapid thermal annealing on interfacial and electrical properties of Gd-doped HfO2 high-k gate dielectrics
期刊论文
Journal of Alloys and Compounds, 2015, 卷号: Vol.646, 页码: 310-314
作者:
Jiweng Zhang
;
Mao Liu
;
Lide Zhang
;
Juan Gao
;
Xuefei Chen
收藏
  |  
浏览/下载:1/0
  |  
提交时间:2019/04/22
Gd-doped
HfO
thin
film
Rapid
thermal
annealing
Interfacial
properties
Electrical
properties
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace