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Improved Growth Behavior of Atomic-Layer-Deposited High-k Dielectrics on Multilayer MoS2 by Oxygen Plasma Pretreatment 期刊论文
ACS Applied Materials and Interfaces, 2013, 卷号: 5, 期号: 11, 页码: 4739-4744
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锰钴镍铜氧化物薄膜光电性质研究 学位论文
: 中国科学院研究生院, 2012
作者:  张琰
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Excellent insulating behavior Al2O3 thin films grown by atomic layer deposition efficiently at room temperature 期刊论文
OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS-RAPID COMMUNICATIONS, 2012, 卷号: 6, 期号: 5
作者:  Shen, YD;  Li, YW;  Zhang, JZ;  Zhu, X;  Hu, ZG
收藏  |  浏览/下载:10/0  |  提交时间:2013/03/18
Role of surface fixed charge in the surface passivation of thermal atomic layer deposited Al2O3 on crystalline-Si 期刊论文
APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING, 2012, 卷号: 109, 期号: 3
作者:  Dou, YN;  He, Y;  Huang, CY;  Zhou, CL;  Ma, XG
收藏  |  浏览/下载:8/0  |  提交时间:2013/03/18
Mn-Co-Ni-O过渡金属氧化物的电学、磁学及光学性质研究 学位论文
: 中国科学院研究生院, 2010
作者:  吴敬
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Mn1.56Co0.96Ni0.48O4薄膜的光学、磁学性质及ZnO薄膜的光学性质研究 学位论文
: 中国科学院研究生院, 2010
作者:  高艳卿
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锰钴镍氧化物薄膜的制备、表征和器件研究 学位论文
: 中国科学院研究生院, 2009
作者:  葛玉建
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激光薄膜应力的测量与控制 学位论文
: 中国科学院研究生院, 2008
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